紫外臭氧清洗工艺.pdfVIP

一．紫外清洗的发展历史 紫外光表面清洗技术在国际上是随着光电子信息产业的发展而提出来的。七十 年代中期美国军事电子技术和器件实验室应用紫外光照射清洗石英晶片取得满意的 效果。但是，美国在较长的时间里紫外光表面清洗技术主要在军事领域中进行研究 性应用。直到九十年代初，日本和美国先后将 UV 光清洗机应用于民用光电子产品 的工业生产过程，并开始向我国个别外资 LCD 企业在要求技术保密的情况下提供 U V 光清洗机。随后，日本在发展紫外光表面清洗技术的同时，紫外光表面改质技术 也得到了发展。在二十世纪末，日本等先进工业国家紫外光表面清洗和改质技术由 信息产业逐步扩展到金属