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半花菁荧光染料稳定性及构效关系研究 半花菁荧光染料反式 -4-[ 对 -(N,N- 二乙醇胺 ) 苯乙烯基 ]-N- 乙基吡啶溴化盐 (DHEASPBr-C2)是一种荧光性能优异的染料 , 在纺织纤维领域具有重要的应用 , 但 由于其光稳定性较差 , 严重影响了服用性能。本文通过实验与量子化学计算两种 方法 , 揭示了该染料主要光降解机理。 首先 , 采用自制半花菁荧光染料 DHEASPBr-C2上染腈纶织物 , 并与商品荧光 染料荧光黄 (X-10GFF)腈纶染色织物对比 , 比较两种染料染色织物在模拟太阳光 ( 氙灯 ) 光照下的光稳定性 ; 同时 , 研究两种染料水溶液分别在高压汞灯与模拟太 阳光 ( 氙灯 ) 光照下的光稳定性及光解动力学 , 测定不同光照时间后的 K/S 值、Lab 值、反射率、紫外吸收光谱与单光子荧光发射光谱等 , 并通过质谱分析染料光解 产物。结果表明 :DHEASPBr-C2染色织物光稳定性不如商品荧光染料 X-10GFF染 色织物 , 两种染料水溶液在两种灯源光照下其稳定性也有相似的趋势 , 且染料在 紫外光下更容易受到破坏 , 两种染料均不同程度地产生一些光降解产物。 其次 , 采用量子化学中的从头算方法、密度泛函理论方法和二级微扰理论方 法全优化两种染料正离子几何构型并计算分子轨道 , 得到稳定的基态分子几何构 型和电子结构 , 根据前线