磁控溅射报告.pdfVIP

磁控溅射的发展及应用 姓名 程凯 学号 10076149128 指导老师 李丽 内容大纲 01 磁控溅射简介及其工作原理 02 磁控溅射的特点 03 影响磁控溅射工艺稳定性的因素 04 磁控溅射的发展及应用前景 01 磁控溅射简介及其工作原理 1.1、磁控溅射简介 于现代科技发展的需求，真空镀膜技术得到了 迅猛发展。真空薄膜技术可改变工件表面性能，提高 工件的耐磨损、抗氧化、耐腐蚀等性能，延长工件使 用寿命，具有很高的经济价值。磁控溅射技术可制备 超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光 学薄膜，以及各种具有特殊功能的薄膜，是一种十分 有效的薄膜沉积方法，在工业薄膜制备领域的应用非 常广泛。 1.1 磁控溅射简介 JCP-500M3磁控溅射沉积系统 1.1 磁控溅射简介 1.2、磁控溅射的工作原理  磁控溅射镀膜的原理如图 2 所示，溅 射靶材处于负高压电位，因此产