多孔TiO2薄膜的制备方法资料.docxVIP

多孔 TiO2 薄膜的制备方法 TiO2 是一种金属氧化物半导体材料，由于其特殊的能带结构及良好的光电性能，在光催化以及染料敏 化太阳能电池方面有广泛应用。多孔 TiO2 具有纳米结构，具有较大的比表面积，均匀的孔径，表面易于吸 附活性物种而形成活性中心， 并能促进反应物和产物扩散， 因此具有普通 TiO2 无法比拟的优势。 但是，TiO2 粉末由于颗粒细微易团聚、难分离、活性成分损失大，不利于催化剂的再生和再利用等，而多孔 TiO2 薄膜 则可避免这些缺点，可以有效提高光催化性能和光电转换效率。因而成为研究热点。 多孔 TiO2 薄膜的制备方法有多种，主要可分为液相法、物理气相法和电化学法。 液相法，是通过控制溶液中化学反应的条件来制备薄膜，制备手段主要为浸渍 -提拉法、旋涂法及静电 喷涂法等。 浸渍 -提拉法是先将基片浸渍在溶液中一段时间后， 再用浸渍 -提拉机从溶液中匀速提升基片， 膜 的厚度由溶液浓度和提拉速度控制；旋涂法是将涂膜液铺展在水平基片上成膜，膜的厚度随基片的旋转速 度增加而增加；静电喷涂法是基片以一定的速度移动，然后通过一个或几个静止溅射枪将溶液喷到预热的 基片上成膜。其原理是以有机表面活性剂形成的有序聚集体作为模板，与无机源进行界面反应，形成有机 - 无机杂化材料；再通过提拉、旋涂等方法镀膜，经过煅烧或溶剂抽提等方式脱除表面活性剂，从而形成孔 径与模板尺寸相仿的有序多孔 TiO2 薄膜。 物理气相沉积法是用电弧、 高频或等离子体等高温热源将靶材上的原子或分子蒸发或溅射出来， 然后冷 却沉积于基片形成薄膜，包括磁控溅射、电子束蒸发、团簇离子束技术及脉冲激光沉积等。这种方法沉积温度较低，不易引起基底的变形与开裂以及镀层性能的下降，制得的薄膜均匀，易控制薄膜的结构与性质，是一种工程上已获得广泛应用的制膜方法，但用该法制膜需在真空下进行，所需的设备价格昂贵。 电化学法制备薄膜常用的方法有阳极氧化、微弧氧化和阳极（或阴极）电沉积等，可在基片表面制备一层均匀的多孔 TiO2 薄膜。电化学法的优点是简单、成本低，容易通过控制沉积电流和电压等参数控制薄膜的厚度、形态及化学组成等，其缺点是必须在导电的基底上沉积薄膜，对薄膜基材的选择范围较窄，而且成本因素也限制了其广泛应用。