第四章-扫描电镜.pptVIP

一、扫描电镜的工作原理 JSM-6301F型扫描电镜 电子光学系统 信号收集、显示系统 电源系统和真空系统 样品室 2、 信号收集、显示系统 探测样品在入射电子作用下产生的物理信号（主要探测二次电子和背散射电子），并输出反映样品表面特征的调制信号，经视频放大后转换成放大的扫描像。 3 、真空系统和电源系统 为保证电子光学系统正常工作，真空系统为防止样品污染提供高真空度， 电源系统则提供稳定的电压电流 。 ① 电子枪发射电子束 ② 经过三个磁透镜聚焦，形成直径为0.02~20?m的电子束 ③ 末级透镜内装有扫描线圈，使电子束在试样表面上作扫描 ④ 试样在电子束作用下，产生各种电子信号 ⑤ 置于试样附近的探测器接收信号（二次电子和背散射电子） ⑥ 信号处理放大后，输送到显像管 ⑦ 荧光屏上得到与样品表面特征对应的信息图。 （显像管中的电子束与镜筒中试样上的电子束是同步扫描的，即显像管上各点的亮度与试样上各点发出来的电子信号强度一一对应） （1）磁透镜的作用不同 SEM电子光学系统中的磁透镜只起聚焦电子束作用。 TEM中的物镜、中间镜和投影镜是起成像、放大作用。 （2） 成像系统不同 SEM成像不需要透镜，其图像是按一定时间空间顺序逐点扫描形成的，并在镜筒外显像管上显示。 TEM是利用电磁透镜成像，并经过放大成像。 1、放大倍数 2、景深 （4）清洁、预处理、干燥： 样品表面要清洁、无粉尘、干燥。（可用丙酮或酒精清洗，必要时用超声波，或表面抛光） 含水或易挥发物应进行预处理，磁性材料预先去磁。 一、表面形貌衬度 表面形貌衬度：由于试样表面形貌差异而形成的衬度。 表面形貌衬度是利用二次电子为调制信号而得到的像衬度。 (beetle) 二、原子序数衬度 原子序数衬度：试样表面微区化学成分差异而形成的衬度。 利用对样品微区Z变化敏感的信号——背散射电子为调制信号，得到能显示微区化学成分差异的像衬度。 扫描电镜的特点： * * 第四章 扫描电子显微分析 扫描电镜：SEM (Scanning Electron Microscope) 表面研究的有效分析方法 Charles Oatley 1952年，英国工程师Charles Oatley制造出了第一台SEM 第一节 扫描电镜的原理、结构与性能 用聚焦电子束在试样表面扫描，电子束与样品相互作用会产生各种电子信号，用探测器接收二次电子、背散射电子信号，并将其放大、显像，以观察样品表面或断口形貌 样 品 入射电子 Auger电子 背散射电子 二次电子 特征X射线 透射电子 吸收电子 电子与物质产生的信号 二、扫描电镜的结构 1、电子光学系统 主要由：电子枪、磁透镜、扫描线圈、样品室等组成 电子枪－－利用阴极与阳极灯丝间的高压产生高能电子束 磁透镜－－会聚电子束，使电子束的束斑缩小。 扫描线圈－－使入射电子束在样品表面扫描，并使显像管在荧光屏上作同步扫描。由扫描发生器和扫描线圈组成。 样品室－－放置样品和安置信号探测器。样品台能进行三维空间的移动、倾斜和转动。 SEM各组成部分的工作流程 扫描电镜与透射电镜结构的主要区别 三、扫描电镜的主要性能 式中： l －荧光屏上显示的图像横向长度 L－电子束在样品上横向扫描的实际长度 因荧光屏尺寸是固定的，因此可通过改变 L来改变M， 方法：调节扫描线圈的电流，若电流 则L M 。 目前SEM的 M 为20－20万倍，且连续可调 SEM的景深是指可获得清晰图像的样品上的深度范围 SEM的景深大，适用于粗糙表面、粗糙断口的观察 通常SEM景深比TEM大10倍，比光学显微镜大100倍。 如10000×时,TEM 的D＝1?m，SEM的D＝10?m 多孔SiC陶瓷的二次电子像 Optical Microscope VS SEM 3、分辨率 SEM分辨本领的决定因素：入射电子束直径和成像信号 ① 入射电子束束斑直径越小，分辨率越高 ② 用于成像的物理信号不同，分辨率不同 二次电子的分辨能力﹥背散射电子的分辨能力 各种信号成像的分辨本领 0.5~2 5~10 俄歇电子 500~5000 100~1000 X射线 0.5~10 透射电子 100~1000 吸收电子 100~1000 50~200 背散射电子 5~50 5~10 二次电子 发射深度(nm) 分辨率(nm) 信号 第二节 扫描电镜的样品制备 SEM的样品制备简单，具体的样品要求包括以下内容： （2）