清洗技术的新亮点.docVIP

清洗技术的新亮点 紫外(UV)光清洗 摘要文章简单介绍了紫外光清洗这种干法清洗的作用原理、性能特点、适用范伟I以及应用时的注意事项。 关键词紫外光清洗光敏作用 紫外灯UV固化UV光源 随着光电子产业的迅猛发展，清洗工艺在光电产品屮是必不可少的工艺，清洗对产品的质量、 精度、外观等方而的影响也越来越重要。如何保证产品的高可靠性和高成品率？如何保证生产的 安全性及生产过程中对环境的保护？那么，对使用者来说：选择高洁净度，且又具有安全、环保 性能的清洗设备尤为重要，在以往的清洗技术(化学清洗和物理清洗)屮，很难达到要求。在又 安全又环保的前提下，如何彻底清除物体表面的污物？ H前国外广泛使用的清洗方法是紫外(UV) 光清洗，它一方而能避免由于使用有机溶剂造成的污染，同时能够将清洗过程缩短。 一、 紫外光清洗的工作原理: 184.9 253.7低压水银灯 WAVELENGTHS (nm)光清洗技术是利用有机化合物的光帧氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过 光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”。更详尽的讲：UV光源发射波长为I85nm和254nm 的光波，具有很高的能量，当这些光子作用到被清洗物体表面时，由于大多数碳氢化合物对185mn 波长的紫外光具有较强的吸收能力，并在吸收185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态 原子、受激分子和屮子，这就是所谓光皱作用。 空气屮的氧气分子在吸收了 185nm波长的紫外 光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波 长的紫外光同样具有强烈的吸收作用,臭氧又 分解为原子氧和氧气。其屮原子氧是极活泼的, 在它作用下,物体表面上的碳和碳氢化合物的分 解物可化合成可挥发的气体：二氧化碳和水蒸 气等逸出表面，从而彻底清除了黏附在物体表 面上的碳和有机污染物。清洗吋，使基板治湿 性向上。玻璃基板是以滚轮方式输送，上方装 置低床水银灯产生紫外线照射。玻璃基板所累 积紫外线能量愈多，其表面水接触愈小，成反 比关系。一?般STN-LCD制作过程屮，需求的玻 璃基板累积紫外线能量为300mj/cm2(253.7nm) 以上。而彩色STN-LCD及彩色滤光片制作过程 屮，要求的玻璃基板累积紫外线能量为 600mj/cm2(253.7nm)o在TFT-LCD制作过程屮，除了低压水银灯产牛臭氧清洗玻璃外，H前制程 的主流是，使用Excimer Lamp,其 184.9 253.7 低压水银灯 WAVELENGTHS (nm) 光清洗原理图 紫外线185nm 254nm185nm254nm0O0 — 0o2/O -O o3185nm0/c co2o0二、光清洗的特点: 紫外线185nm 254nm 185nm 254nm 0 O 0 — 0o2 /O -O o3 185nm 0 /c co2o 0 二、光清洗的特点: 1、 是一-种“干洗”方式，可在空气屮进行并且在清洗后不必进行干燥。 2、 可彻底清除物体表面的碳和有机污染物。 3、 无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。 4＞保证产品的高可靠性和高成品率。 5、 产品表面清洗处理的均匀度一致。 6、 由于光清洗是通过光敏、氧化反应去除物体表面的碳和有机化合物，所以容易发生氧化的表血不宜用 光清洗方法，只适对表面污垢清洗、不适对污垢量较多，无机类污垢清洗。 7、 三、 光清洗的技术应用范围： 主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、 密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法最为合适。 主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、珞板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和 带有氧化膜的金 属等进行精密清洗处理。 可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆詁油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、 润滑油、残余的光刻胶等。 此UV光源在LCD工艺屮又具有UV改质（紫外光表面质变）的特点，H前在液晶显示器STN 的生产过程屮，主要是用在膜处理技术上，对于改善膜与膜之间的密接是非常有效的，如ITO膜 与感光胶膜层，TOP涂层与PI涂层等等。另在研究部门又可用來UV改性塑料材料产甜，用于纳 米技术研究，产詁经此UV光照射发生化学反应，使产詁表面性质改变。STN-LCD.彩色滤光片 及OLED的制作过程屮，有些制程设备相当雷同，差别在于制造工艺要求的不同。随着线路的精 细化及产詁的彩色比，LCD产业对制造工艺的要求也不断地提升，而有“工欲善其事，必先利其 器”之需求，因此只有设备能力不断地精进，才能提高生产的质量与效率。 紫外光清洗机 随着科学技术的发展，紫外应用技术向更深更广的方向发展。在光清洗的新标准屮，百级净 化、十级净化。紫外改性的应用改进了产品应用工艺。我们希望朋友们来电、来函，沟通、探讨 共同致力于此行业的发展。