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- 2021-03-16 发布于天津
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清洗工艺介绍扩散部陈永南清洗概论半导体对杂质极为敏感百万分之一甚至十亿分之一的微量杂质就对半导体的物理性质产生影响微量的有害杂质可由各种随机的原因进入器件从而破坏半导体器件的正常性能为了清除随机污染建立了特殊的半导体工艺清洗工艺清洗的基本原理讲清洗的基本原理应当从玷污的来源讲起只有知道了各种玷污的来源针对具体的玷污才能制定具体的清洗方法各种玷污的来源和相对的影响见表表各种玷污的来源和相对的影响污占可能来源影响粒颗设备环境气体去离子水化学试剂氧化层低击穿成品率降低属离子金设备化学试剂反应离子刻蚀离
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1 ? 清洗工艺介绍
扩散部陈永南
清洗概论
半导体对杂质极为敏感，百万分之一甚至十亿分之一的微量杂质，就对半导体
的物理性质产生影响，微量的有害杂质可由各种随机的原因进入器件，从而破坏 半导体器件的正常性能。为了清除随机污染建立了特殊的半导体工艺 --清洗工艺
清洗的基本原理
讲清洗的基本原理，应当从玷污的来源讲起，只有知道了各种玷污的来源，针
对具体的玷污，才能制定具体的清洗方法，各种玷污的来源和相对的影响见表 1
表1各种玷污的来源和相对的影响
8.
污
E占 9. 可能来源
10 . 影响
11 .
粒
颗 12.设备
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