第五章--计算全息.pptVIP

2021/3/23 * 三、二元光学元件的设计 二元光学元件的设计问题十分类似于光学变换系统中的相位恢复问题:已知成像系统中的入射场和输出平面上的光场分布,如何计算输入平面上相位调制元件的相位分布,使得它正确地调制入射光场,高精度地给出预期输出图样,实现所需功能。 2021/3/23 * 下图所示的是由一个折射透镜演变成2π模的连续浮雕及多阶浮雕结构表面的二元光学元件过程。由于透镜是大家熟悉的普通光学元件,我们以它为例来阐述二元光学元件设计的基本方法。 2021/3/23 * 图6.9.3 透镜二元化过程示意图 将图6.9.3(a)中各点减去2π整数倍后的相位分布图画在6.9.3(b)中,它表示相位改变最大值为2π的、分段连续的透镜截面图。用相位差多个台阶分布来逼近图6.9.3(b)中的连续相位分布，得到图6.9.3(c)的离散化相位分布图，它的功能与图6.9.3(a)所表示的透镜是相同的。 2021/3/23 * 连续函数不能用于刻蚀二元光学元件,必须将它二元化变成离散的台阶分布。如果套刻次数为N,则0到2π之间可取的相位值只有L =2N个，相邻台阶之间的相位差为2π/L。这L个相位值为?i=2πi/L(i =0,l ,2,…,L-1)。例如N=3，最小的相位差是π/4，能取的相位值为0,π/4, π/ 2, 3π /4,π，5 π /4， 3 π/2，7π/4。 综上所述,二元光学器件的设计，其主要内容是根据对元件功能的要求，给出能用于刻蚀的离散相位分布函数。 2021/3/23 * 通过函数计算方法,根据光学系统的配置,求出需要的相位转换函数 其中?（x,y）即为相位调制函数。然后对其二元化,具体作法是:先取出每一个像素单元的中心函数减去 2 π的整数倍，然后根据套刻次数N，把L量级中最接近的一级相位值赋予它即可。 2021/3/23 * 对于二元光学器件来说,一个重要的参数是衍射效率。从连续函数可以看到，套刻次数N越大，则每个周期中的相位阶数L越大，二元化后离散相位分布与连续相位分布就越接近。可以证明，衍射效率 刻蚀掩膜数N越多,衍效率越高。 2021/3/23 * 元件实物照片 分束实验结果 设计结果 分束器件DAMMAN光栅 2021/3/23 * 4、二元光学元件的制作 二元光学元件是用大规模集成电路的光刻技术加工而成的二元化器件。其加工技术主要由掩膜制作技术、图形曝光技术和图形刻蚀技术组成. 二元光学元件制作的第一步是按照计算出的相位分布,制作刻蚀用的二元振幅型掩模。通常L级相位台阶需要设计N个掩模,使L=2N. 2021/3/23 * 四值元件的制作过程 2021/3/23 * 接下来是进行光刻,所谓光刻是指图形曝光和图形刻蚀。它先通过图形曝光将掩模图形精确复制到表面涂有光刻胶的待刻片基上,如图6.9.4(a)所示.通过显影,使掩模上通光部分的光刻胶被清除,片基裸露,如图6.9.4(b)所示.然后在光刻胶的保护下对片基进行刻蚀,当N=1时,刻蚀深度为d =λ/2(n-1),如图6.9.4(c)所示。清除剩余的光刻胶,得到相位台阶为0,π的所需的浮雕图形,如图6.9.4(d)所示. 2021/3/23 * 制作高性能的二元光学器件,通常要进行多次这样的刻蚀过程,即套刻.每次光刻掩模的几何图形都不同,N=2的四台阶元件工艺流程第一步与图6.9.4相同,第二步如图6.9.5所示。经过两次套刻以后,得到相位深度为0,π/2,π,3π/2的浮雕结构,其空间分布由两块掩膜决定.经过多次刻蚀,得到锐而细的相位浮雕结构,即二元光学器件. 2021/3/23 * 16相位级CdTe微透镜阵列电子扫描显微图 2021/3/23 * 亚微米级“蛾眼”光栅微结构显微图 2021/3/23 * 激光束直写微透镜阵列的电子扫描显微镜（SEM）图像 2021/3/23 * 微透镜表面分布图 2021/3/23 * 二元光学不仅在改变常规光学元件,变革传统光学技术上具有创新意义，而且能够实现传统光学许多难以达到的目的和功能，因而被誉为九十年代的光学。二元光学元件除了具有体积小、重量轻、容易复制等明显优点外，还具有以下独特的功能和特点: 五、二元光学元件的特性 2021/3/23 * 1.高衍射效率 二元光学元件是一种纯相位衍射光学元件,为得到高的衍射效率,可做成多相位阶数的浮雕结构。一般使用N块模版可得到L =2N个阶数,其衍射效率为:?=|sin(π/L)/(π/L)|2. 当L =2,4,6,8和16时,由此计算得:? =40.5%,81%,94.9%和98.6%. 2021/3/23 * 2