电子束蒸发法工艺对手蒸发镀膜设备tio薄膜折射率的影响.pptVIP

* 电子束蒸发法工艺对蒸发镀膜设备TiO薄膜折射率的影响 电子束蒸发法工艺对蒸发镀膜设备TiO薄膜折射率的影响电子束蒸发法工艺对蒸发镀膜设备TiO薄膜折射率的影响中,各种工艺参数都影响着薄膜的折射率。所以选取适当的工艺参数,研究工艺参数对薄膜折射率的影响是必要的。具体工艺参数及薄膜 人家说，孩子的出生不是来报恩，是来讨债的。我载着父母的款款深情，来到这世上，从这天起，他们没有了自我，从这一天起，他们再也不会为自己打算。 中,各种工艺参数都影响着薄膜的折射率。所以选取适当的工艺参数,研究工艺参数对薄膜折射率的影响是必要的。具体工艺参数及薄膜 折射率见表1。 表1 镀膜工艺参数及薄膜折射率 基片温度对薄膜折射率的影响 TiO2薄膜的折射 率范围很宽,为2.2～2.7,可实际上在无离子源辅助蒸发的情况下,折射率会低于2.2。这是由于在用常规热蒸发方法制备的薄 膜存在疏松的柱状结构造成的。而适当的提高基片温度可以使疏松的结构得到一定程度的改善,提高薄膜的结晶度,从而提高膜的折射率 。 基片温度高可以促进失氧的TiO2蒸汽分子与氧分子的反应,从而减少TiO2 的失氧,有助于折射率值的提 高;另外由于水分子在玻璃基板上化学解吸的温度要求较高,高温会促使水分子的解吸,也可以提高折射率。随着基片温度的增加,基片 上原子的迁移率增大,晶格上的缺陷减小,晶粒尺寸增加,