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GB/T XXXXX—XXXX
A
附 录 A
(资料性)
样品检测实例
A.1 设备要求
使用扫描电子显微镜(SEM)观察三维纳米结构的电子图像,其主要技术要求如下:
a) 放大倍数达到25000 倍或以上;
b) 样品台倾斜角度达到45° ;
c) 分辨率:优于2nm 。
A.2 环境要求
检测环境宜控制在相对湿度40~60%,温度20℃~30℃。
A.3 典型三维纳米结构材料的表征
A.3.1 自支撑直立纳米线构建三维纳米结构的实验结果及评价
利用自支撑直立纳米线构建三维纳米结构的实验结果及评价结果如下:
a) 直立纳米线结构的SEM图像 (图A.1);
b) 纳米线直径为100nm;
c) 纳米线高度分别为5µm、3µm、1µm;
d) 纳米线间距5µm;
e) 不同形变角度三维纳米结构SEM图像 (图A.1);
f)评价结果:SEM检测结果满足三维纳米结构样品的评价指标。
图A.1 不同形变角度三维纳米结构SEM 图像
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GB/T XXXXX—XXXX
A.3.2 自支撑纳米薄膜构建三维纳米结构的实验结果及评价
利用自支撑纳米薄膜构建三维纳米结构的实验结果及评价结果如下:
a) 三维纳米结构示意图见图A.2,三维纳米结构SEM图像见图A.3;
b) 结构的周期为px=py=3.0 m;
c) 方形孔的尺寸为ax=ay=2.0 m;
d) 金属劈裂谐振环的线宽为w=340 nm;
e) 金属劈裂谐振环的高度为h=1.0 m;
f) 金属劈裂谐振环的宽度为l=1.2 m;
g) 金属薄膜的厚度为 80 nm;
h)评价结果:SEM检测结果满足三维纳米结构样品的评价指标。
图A.2 三维纳米结构的示意图
图A.3 三维纳米结构的SEM 图
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