半导体制造工艺之光刻原理课件.pptxVIP

光刻胶的一些问题;2、下层反射造成驻波，下层散射降低图像分辨率。;驻波对于光刻图形的影响;光刻步骤简述;光刻步骤详述;硅片对准，曝光;坚膜：10～30 min，100～140 ?C;Stepper Scan System;图形转移——刻蚀;图形转移——剥离（lift-off）;去胶 溶剂去胶 （strip）：Piranha (H2SO4:H2O2)。 正胶：丙酮;光源;248 nm;2、Reducing resolution factor k1;Alternating PSM Attenuated PSM ……;2.光学光刻分辨率增强技术(RET) ;OPC实例;3、离轴照明技术 OAI (off-axis illumination);Mask design and resist process;Lens fabrication;21;22;EUV;Minimum feature size ;EUV（Extreme ultra violet);反射式掩模版;电子束图形曝光;光栅扫描（左）和矢量扫描;电子束光刻问题：1）速度慢！;电子束光刻问题：2）电子散射及二次电子：线条宽束斑;电子束源： 热电子发射 场发射 光发射;电子束抗蚀剂;邻近效应;X射线图形曝光（XRL）;35;X射线图形曝光的几何效应;离子束图形曝光;不同图形曝光方法的比较;各种图形曝光技术的比较如下;光刻总结;1、Genius only means hard-working all ones life. (Mendeleyer, Russian Chemist)? 天才只意味着终身不懈的努力。20.8.58.5.202011:0311:03:10Aug-2011:03 2、Our destiny offers not only the cup of despair, but the chalice of opportunity. (Richard Nixon, American President )命运给予我们的不是失望之酒，而是机会之杯。二〇二〇年八月五日2020年8月5日星期三 3、Patience is bitter, but its fruit is sweet. (Jean Jacques Rousseau , French thinker)忍耐是痛苦的，但它的果实是甜蜜的。11:038.5.202011:038.5.202011:0311:03:108.5.202011:038.5.2020 4、All that you do, do with your might; things done by halves are never done right. ----R.H. Stoddard, American poet做一切事都应尽力而为，半途而废永远不行8.5.20208.5.202011:0311:0311:03:1011:03:10 5、You have to believe in yourself. Thats the secret of success. ----Charles Chaplin人必须相信自己，这是成功的秘诀。-Wednesday, August 5, 2020August 20Wednesday, August 5, 20208/5/2020 6、Almost any situation---good or bad---is affected by the attitude we bring to. ----Lucius Annaus Seneca差不多任何一种处境---无论是好是坏---都受到我们对待处境态度的影响。11时3分11时3分5-Aug-208.5.2020 7、Although the world is full of suffering, it is full also of the overcoming of it.----Hellen Keller, American writer虽然世界多苦难，但是苦难总是能战胜的。20.8.520.8.520.8.5。2020年8月5日星期三二〇二〇年八月五日 8、For man is man and master of his fate.----Tennyson人就是人，是自己命运的主人11:0311:03:108.5.2020Wednesday, August 5, 2020 9、When success comes in the door, it seems, love often goes out the window.-----Joyce Brothers成功来到门前时，爱情往往就走出了窗外。11:038.5.202011:038.5.20201