（精华版）磁控溅射法制备薄膜材料实验报告.docx

实行一磁控溅射法制备薄膜质料一、实行目得1、具体把握磁控溅射制备薄膜得原理与实行步伐；2、制备出一种金属膜，如金属铜膜；3、丈量制备金属膜得电学性能与光学性能；4、把握实行数据 实行一 磁控溅射法制备薄膜质料 一、实行目得 1 、具体把握磁控溅射制备薄膜得原理与实行步伐； 2 、制备出一种金属膜，如金属铜膜； 3 、丈量制备金属膜得电学性能与光学性能； 4 、把握实行数据处置与阐发要领， 并能利用 Origin 画图软件对实行数据进 行处置与阐发； 二、实行仪器 磁控溅射镀膜机一套、万用电表一架、紫外可见分光光度计一台；玻璃基 片、金属铜靶、氩气等实行耗材； 三、实行原理 1、磁控溅射镀膜原理 （1）辉光放电 溅射为创建在气体辉光放电得根底上，辉光放电为只在真空度约为几帕得稀 薄气体中， 两个电极之间加上电压时产生得一种气体放电征象； 辉光放电时， 两 个电极间得电压与电流干系干系不能用简朴得欧姆定律去形貌，以气压为 1.33Pa 得 Ne 为例，其干系如图 5 -1 所示； 图 5-1 气体直流辉光放电得形成 当两个电极加上一个直流电压后，由于宇宙射线产生得游离离子与电子有 限，开始时只有很小得溅射电流； 随着电压得升高， 带电离子与电子得到充足能 量，与中性气体分子碰撞产生电离， 使电流渐渐进步， 但为电压受到电源得高输 出阻抗限定而为一常数，该地区称为汤姆森放电区；一旦产生呢