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;目 錄
電鍍組織架構簡介
第一章:PTH工藝流程
第二章:ICU工藝流程
第三章:IICU工藝流程
第四章:蝕刻工藝流程
第五章:電鍍制程主要不良項目
第六章:電鍍工安注意事項
電鍍制程考核試題;;第一章
PTH工藝流程
;注意事項:
1.? 磨刷效果:以烘干后水破試驗大於15秒
2.? 定期整刷:維持磨刷均勻性,避免造成局部過度磨刷
3.? 刷幅:要求1.0~1.5cm,刷幅過多易造成隨圓孔(喇叭孔)
4.? 定期檢查磨刷水洗噴嘴及清理銅粉(泥)等,
5.? 高壓水洗:35~60kg/cm2,中壓水洗5~20kg/cm2
6.? 超音波振蕩:將鑽孔后細小epoxy及磨刷銅粉去除(不能過強)
;二、PTH-Planted Throught Hole(導通孔鍍銅)
目的:將鑽孔后不導電的環氧樹脂孔壁鍍上一層極薄的金屬,使之具有導電性,為之后的制程(ICU)做準備
流程:;預浸;1.膨鬆
目的:使用於除膠渣前之處理劑,可除去鑽孔所產生的碎屑及污物,能膨鬆及軟化基材,以增進下一站高錳酸鉀的咬蝕
作業參數及條件
溫度 70±20OC
時間 6分
攪拌 擺動
槽體材質 S.S316或304
加熱器 鈦、石英或鐵弗龍
循環過濾 須要
;2.除膠:
目的:將鑽孔后孔壁及內層銅薄上殘留的樹脂殘渣(smear)去除,並將孔內的樹脂(epoxy)部分咬蝕成峰窩狀,以加強化學銅與孔壁的結合力
溫度 70±20 OC
時間 15分(12分~18分)
攪拌 擺動 鼓風
總Mn量 60±5g/l Mn6+〈25g/l NaOH 40±8g/l
再生機電流 〉800A
槽體材質 鈦或S.S316
加熱器 鈦或鐵弗龍
再生裝置 須要
;3.中和劑
目的:此藥液為酸性還原劑,可中和鹼性殘液,並可還原殘餘七價
錳,六價錳及二氧化錳等可溶性二價錳離子,避免氧化劑帶入其 后之流程
作業參數與條件
溫度 45±2 OC
時間 6分
攪拌 擺動
槽體材質 P.E或PP
加熱器 石英或鐵弗龍
過濾 須要
;4.整孔劑
是一种微鹼性的化學品,主要含有陽離子界面活性劑,使原本負電性的孔壁形成帶正電性以利於活化劑鈀的附著;另一方面,使槽浴的表面張力降低,讓原本不親水性的板面及孔壁也能夠具有親水濕潤的效果,以利於后續的藥水更能發揮更好的效果
溫度 63±2 OC
時間 5分30秒
擺動 必須
水洗 三段水洗,第一段最好用40~50 OC熱水洗
槽體材質 S.S316 或304
加熱器 S.S加熱器
過濾 須要
;5.微蝕劑
是一种能將銅表面粗化的藥液,一方面能將銅面上的氧化物,雜物及整孔劑咬掉,使在金屬化的過程中讓鈀膠體及化學銅能盡量鍍在孔內;另一方面是使板面粗化,讓化學銅在粗化的板面上有更好的附著力
反應原理:
Cu+H2O2 CuO+ H2O
CuO+H2SO4 CuSO4+ H2O
H2O2 H2O+1/2O2 ;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;
;剝錫A藥液組成
A液: a氧化劑:用以將Sn/Pb氧化成SnO/PbO
b抗結劑:將PbO/SnO轉成可溶性結構,避免飽和沉澱
c抑制劑:防止A液咬蝕合金
B液:a氧化劑:用以咬蝕錫銅合金
b抗沉劑:防止金屬氧化物沉澱
c護銅劑:保護銅面防止氧化
測定A液有無剝錫效用,請先關掉B液試走板子,看板面呈透明
狀,表示還有藥效,若呈現黑色表示A液已無效用
;錫銅合金剝除
Cu6Sn5 Cu++Sn+(溶解)
Cu3Sn Cu++Sn+(溶解)
計算公式:
剝錫量(g/l)=鍍錫厚度*密度*鍍錫面積
Sn密度=7.29g/cm3 Pb密度=8.9g/cm3
Sn/Pb(60:40)
剝錫量:單液120g/l(140g/l) 雙液(A液)100g/l
雙液型剝錫液之優點
1.二步法完全剝除純錫鍍層和銅錫合金鍍層.
2.可解決鍍層分布不均勻引起的問題
3.不攻擊銅面及玻璃縴維底材 4.不產生沉淀
;脫皮
產生根源:1.磨刷效果不佳,臟物、氧化、膠跡未除盡
2.微蝕不足結合力不好
3.板子在空氣中滴水時間過長氧化嚴重
處理方式:報廢;銅渣
產生根源:1.銅球及PCB掉缸
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