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LCD工艺流程简述 一、前段工位： ITO 玻璃的投入（ grading ）—— 玻璃清洗与干燥（ CLEANING）—— 涂光刻胶（ PR COAT）——前烘烤（ PREBREAK）——曝光（ DEVELOP） 显影（ MAIN CURE）——蚀刻（ ETCHING）—— 去膜（ STRIP CLEAN） 【属于光科技术，详见百度百科 】—— 图检 （INSP）——清洗干燥 （CLEAN） —— TOP 涂布（TOPCOAT）—— UV 烘烤 （UVCURE）—— 固化（MAIN CURE）——清洗 （CLEAN）—— 涂取向剂 （PI PRINT）——固化 （MAIN CURE）—— 清洗（ CLEAN）——丝网印刷（ SEAL/SHORT PRINTING） —— 烘烤（ CUPINGFURNACE）—— 喷衬垫料（ SPACERSPRAY）—— 对位压合（ ASSEMBLY）—— 固化（ SEAL MAIN CURING） 讲解： 1． ITO 图形的蚀刻： （ITO 玻璃的投入到图检完成） A． ITO 玻璃的投入：根据产品的要求，选择合适的 ITO 玻璃装入 传递篮具中，要求 ITO 玻璃的规格型号符合产品要求， 切记 ITO 层 面一定要向上插入篮具中。 B． 玻璃的清洗与干燥： 将用清洗剂以及去离子水（ DI 水）等洗净 ITO 玻璃，并用物理或者化学的方法将 ITO 表面的杂质和油污洗净， 然后把水除去并干燥，保证下道工艺的加工质量。 光刻技术 （1. 气相成底模 2. 旋转烘胶 3. 软烘 4. 对准和曝光 5. 曝光后烘焙（ PEB） 6. 显影 7. 坚膜烘焙 8. 显影检查） C． 涂光刻胶： 在 ITO 玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶， 涂 过光刻胶的玻璃要在一定的温度下作预处理 ： D． 前烘：在一定的温度下将涂有光刻胶的玻璃烘烤一段时间，以使 光刻胶中的溶剂挥发，增加与玻璃表面的粘附性。 E． 曝光：用紫外光（ UV）通过预先制作好的电极图形掩模版照射光 刻胶表面， 使被照光刻胶层发生反应， 在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光 刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光： （如图所示） F． 显影：用显影液处理玻璃表面，将经过光照分解的光刻胶层 除去，保留未曝光部分的光刻胶层， 用化学方法使受 UV 光照射部 分的光刻胶溶于显影液中，显影后的玻璃要经过一定的温度的坚 膜处理 G． 坚膜：将玻璃再经过一次高温处理，使光刻胶更加坚固。 H． 刻蚀： 用适当的酸刻液将无光刻胶覆盖的 ITO 膜蚀掉，这样 就得到了所需要的 ITO 电极图形， 注： ITO 玻璃为（ In2O3 与 SnO2）的导电玻璃，此易与酸发生反 应，而用于蚀刻掉多余的 ITO，从而得到相应的拉线电极。 I ． 去膜：用高浓度的碱液（ NaOH溶液）作脱膜液，将玻璃上余 下的光刻胶剥离掉，从而使 ITO 玻璃上形成与光刻掩模版完全一 致的 ITO 图形。（即按客户要求进行显示的部分拉线蚀刻完成， 如 图） J ． 清洗干燥：用高纯水冲洗余下的碱液和残留的光刻胶以及其 它的杂质。 二、特殊制程： （TOP 膜的涂布到固化后清洗） 一般的 TN 与 STN 产品不要