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第二章  功率二极管 
1、PN结的穿通:是指空间电荷区随反向电压的升高而展宽到与电极 
接通而发生的短路现象。需要承受很高的反向电压而正向导通时的电 
流容量又要很大的PN结比较容易碰到穿通问题 
2 、PN结的反向击穿 
PN结反向电压增加过大,达到反向击穿电压VBR时,反向电流将会急 
剧增加,破坏了PN结反向偏置为截止的工作状态,这种状态称为反向 
击穿。 
3雪崩击穿是电力半导体器件中最常见的击穿现象。                                     为同时满足正反 
两种偏置状态要求 (正向导通电流容量大、反向耐压高),功率器件 
的PN结通常为单边突变结。反向电压VR↑—空间电荷区内电场强度↑ 
—  载流子漂移运动的动能↑—与晶体原子发生碰撞使之电离  —  空 
间电荷层载流子浓度↑                 (数 目倍增)—反向电流IR  ↑  —  单向导电性 
遭到破坏 (击穿)。雪崩击穿通常发生在空间电荷区较宽的轻掺杂一 
侧,对于单边突变结,雪崩击穿电压UB随着轻掺杂区的杂质浓度的升 
高而下降。 
4 、雪崩击穿和隧道击穿的主要区别 
      •  隧道击穿主要取决于空间电荷区中的最大电场;雪崩击穿除了 
        与电场有关外,还与空间电荷区宽度有关。 
      • 雪崩击穿是碰撞电离的结果,如果用光照等其他办法,同样会 
        有倍增效应;而上述外界作用对隧道击穿则不会有明显的影 
        响。 
      •  隧道击穿电压随着温度的增加而降低,温度系数为负数;而雪 
        崩击穿电压随着温度的增加而增加,温度系数为正数  。 
PN结的反向电流会随着结温的上升而增大。 
5、PN结的电荷量随外加电压而变化,呈现电容效应,称为结电容 
CJ ,又称为微分电容。 
正向偏置条件下,当正电压较低时,扩散运动较弱,势垒电容 占主要 
成份;正向电压较高时,扩散运动加剧,使扩散电容按指数规律上 
升,成为PN结的主要成份。 
反向偏置状态下,因扩散运动被抑制,因而表现出较小的扩散电容, 
因此PN结电容以势垒电容为主。 
6、PN结的电导调制效应 (以P+N为例) 
  P 区向N 区注入空穴,在N 区形成少数载流子积累,与N 区的电子复合 
而形成少子浓度梯度,随着正向电流的上升,少数载流子的积累增 
多,少子浓度梯度变缓。少子空穴浓度分布在大部分高阻N 区。因为 
注入的少子浓度远高于N 区的平衡少子浓度,因而使得N 区的电阻率下 
降,电导增加。 
7、利用二极管正、反向电流相差悬殊这一特性,可以把二极管作开关 
使用。 
提高PN结开关速度的途径: 
一、从电流角度考虑,可以减小正向注入电流和增大抽取电流 (即初 
始反向电流  )IR 。 
二、从结构角度考虑,就是降低少数载流子的寿命。器件制造工艺中 
常掺入某些特殊杂质 (如金、铂、铜、镍等)的方法来缩短少子寿 
命,这是提高开关速度最主要的方法 
8、功率二极管的结构 
主要有螺栓型和平板型两种封装。电导调制效应使得PN结在正向电流 
较大时压降仍然很低,维持在1V左右,所以正向偏置的PN结表现为低 
阻态 
9、提高功率二极管的反向阻断能力,避免表面击穿,其PN结外露处 
通常都经过了特殊的造型处理。一类是台面造型,另一类是加保护环 
 (也称终端延伸技术) 
功率二极管属于功率最大的半导体器件,现在其最大额定电压、电流 
在8kV、6kA以上。 
10、普通二极管Line-frequency  Diodes——正向压降可以设计的尽可能 
的低,但是通常trr较大,用于线性频率的系统,  耐压几千伏,电流几 
千安。 
快恢复二极管FRD——采用扩散法和少子寿命控制技术制成,特点是 
反向恢复很快、成本低,但是反向恢复波形很硬。 
肖特基二极管Schottky  Diodes——导通压降只有0.4V                         (forward  voltage 
drop )反压为50-100V 。反向恢复时间更短,10~40ns,不会有明显的 
电压过冲。缺点是当提高反向耐压时,正向压降也会提高,多用于 
200V 以下的低压场合;反向漏电流也很大。 
11、Pin二极管 
中间的i层一般用电阻率很高的p型或n型层代替,因为完全没有杂质的 
本征层很难实现。常将高阻p层称为π层,高阻的n层称为v层。故实际 
的pin 二极管为pπn和pvn结构。 
12 、肖特基二极管特点 (反向恢复时间极短 (可以小到几纳秒),正 
向导通压降仅0.4V左右,而整流电流却可达到几千安培。这些优 良特 
性是快恢复二极管所无法比拟的。) 
优点:1、
                
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