薄膜工艺技术 .pptxVIP

薄膜工艺技术交流 ;CVD部分;一：概述; 经过数十年的发展，CVD已经成为半导体生产过程中最重要的薄膜沉积方法。PVD的应用大都局限在金属膜的沉积上；而CVD几乎所有的半导体元件所需要的薄膜，不论是导体，半导体，或者介电材料，都可以沉积。 在目前的VLSI及ULSI生产过程中，除了某些材料因特殊原因还在用溅镀法之外，如铝硅铜合金及钛等，所有其他的薄膜均用CVD法来沉积。;二：CVD沉积原理及特点;二：CVD沉积原理及特点;二：CVD沉积原理及特点;9、要学生做的事，教职员躬亲共做；要学生学的知识，教职员躬亲共学；要学生守的规则，教职员躬亲共守。7月-217月-21Friday, July 9, 2021 10、阅读一切好书如同和过去最杰出的人谈话。18:37:3318:37:3318:377/9/2021 6:37:33 PM 11、一个好的教师，是一个懂得心理学和教育学的人。7月-2118:37:3318:37Jul-2109-Jul-21 12、要记住，你不仅是教课的教师，也是学生的教育者，生活的导师和道德的引路人。18:37:3318:37:3318:37Friday, July 9, 2021 13、He who seize the right moment, is the right man.谁把握机遇，谁就心想事成。7月-217月-211