硅片清洗和制绒讲义.pptVIP

硅片清洗和制绒讲义 2 硅片的化学清洗 由硅棒、硅锭或硅带所切割的硅片,表面可能沾污的杂质可归纳为三类： ①油脂、松香、蜡、环氧树脂、聚乙二醇等有机物； ②金属、金属离子及一些无机化合物； ③尘埃及其他颗粒（硅，碳化硅）等。 硅片表面沾污的杂质 3 硅片的化学清洗 颗粒沾污：运用物理方法，可采取机械擦洗或超声波清洗技术来去除。 超声波清洗时，由于空洞现象，只能去除 ≥ 0.4 μm 颗粒。兆声清洗时，由于的加速度作用，能去除 ≥ 0.2 μm 颗粒，即使液温下降到40℃也能得到与80℃超声清洗去除颗粒的效果，而且又可避免超声洗硅片产生损伤。 超声清洗 4 硅片的化学清洗 硅片化学清洗的主要目的是针对上述可能存在的硅片表面杂质进行去除。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂（如甲苯、二甲苯、丙酮、三氯乙烯、四氯化碳等）、浓酸、强碱以及高纯中性洗涤剂等。 常用的化学清洗剂 5 硅片的化学清洗 （1）硫酸 热的浓硫酸对有机物有强烈的脱水炭化作用，采用浓硫酸能有效去除硅片表面有机物； （2）王水 王水具有极强的氧化性、腐蚀性和强酸性，在清洗中主要利用王水的强氧化性； 王水能溶解金等不活泼金属是由于王水溶液中生成了氧化能力很强的初生态氯[Cl]和氯化亚硝酰