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- 2021-09-08 发布于河北
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9 表面分析技术;9.1 俄歇电子能谱分析 ;俄歇电子的产生和俄歇电子跃迁过程
一定能量的电子束轰击固体样品表面,将样品内原子的内层电子击出,使原子处于高能的激发态。外层电子跃迁到内层的电子空位,同时以两种方式释放能量:发射特征X射线;或引起另一外层电子电离,使其以特征能量射出固体样品表面,此即俄歇电子。; 俄歇电子跃迁过程 俄歇电子跃迁过程能级图
俄歇跃迁的方式不同,产生的俄歇电子能量不同。上图所示俄歇跃迁所产生的俄歇电子可被标记???WXY跃迁。如 KLL跃迁:K层电子被激发后,可产生KL1L1,KL1L2,KL2L3,…等K系俄歇电子。;
俄歇电子的激发方式虽然有多种(如X射线、电子束等),但通常主要采用一次电子激发。因为电子便于产生高束流,容易聚焦和偏转。
分析依据:俄歇电子的能量具有特征值,其能量特征主要由原子的种类确定,只依赖于原子的能级结构和俄歇电子发射前它所处的能级位置, 和入射电子的能量无关。测试俄歇电子的能量,可以进行定性分析;根据俄歇电子信号的强度,可以确定元素含量,进行定量分析。 ;俄歇电子产额:;俄歇分析的选择;9、我们的市场行为主要的导向因素,第一个是市场需求的导向,第二个是技术进步的导向,第三大导向是竞争对手的行为导向。七月-21七月-21Wednesday, July 14, 20
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