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一文读懂表面分析技术:XRF-STM
要点:
1)XRFS:光致发光,二次特征X射线波谱与能谱类似于电子探针中的波谱与能谱。XPS也是光致发光。第1次特征X射线均是由电子束作用选定的靶材产生的,第2次特征X射线是第1次特征X射线作用试样后产生的。
2)XRFS具有分析元素范围广(4Be~92U)、元素含量范围大(0.0001%~100%)、固态试样不作要求(固体、粉体、晶体和非晶体等)等特点,分析不受元素化学状态的影响,属于物理分析过程,试样无化学反应,无损伤,主要用于表面成分分析。
3)STM的隧道电流与绝缘体厚度呈指数关系,对厚度十分敏感,故其精度高。待测试样为导体或半导体、针尖为金丝、铂丝、钨丝等,针尖长度不超0.3nm,理想为1个原子。对不良导体虽然可以在其表面涂敷导电层,但涂层的粒度及其均匀性会直接影响图像对真实表面的分辨率,故对不良导体的表面成像宜采用其他手段,如原子力显微镜等进行观察。
4)STM在平行和垂直于样品表面方向上的分辩率分别达到0.1nm和0.01nm,而原子间距为0.1nm量级,故可观察原子形貌,分辨出单个原子,克服了SEM、TEM的分辨率受衍射效应的限制,因而STM具有原子级的高分辨率。但在恒流工作时,对样品表面微粒间的某些沟槽不能准确探测,分辨率也不高。
5)STM可实时观察表面原子的三维结构像,用于表面结构研究,如表面原子扩散运动的动态观察等。观察表面单个原子层的局部结构,如表面缺陷、表面吸附、表面重构等。
6)STM一般无需特别制备样品,且对样品无损伤。工作环境要求不高,可在真空、大气或常温下工作。
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