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真空镀膜机简介 真空镀膜机简介 真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子 真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子 MBE PLD 蒸发，磁控溅射，MBE 分子束外延，PLD 激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和 蒸发，磁控溅射， 分子束外延， 激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和 溅射两种。 溅射两种。 需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。 需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。 蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片 蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片 -- -- 表面，通过成膜过程 （散点－岛状结构 迷走结构 层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜， 表面，通过成膜过程 （散点－岛状结构 迷走结构 层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜， 可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出 可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出 来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。 来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。 镀膜机使用的步骤 镀膜机使用的步骤 一、电控柜的操作 一、电控柜的操作 1.  1. 开水泵、气源 开水泵、气源 2.  2. 开总电源 开总电源 3.  V1 10 3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置 V1位置，等待其值小于 10 后，再进入下一 开维持泵、真空计电源，真空计档位置 位置，等待其值小于 后，再进入下一 5 5 步操作。约需 分钟。 步操作。约需 分钟。 4.  V2 2 4. 开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到 V2位置，抽到小于 2 开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到 位置，抽到小于 20 为止，约需 20 分钟。 为止，约需 分钟。 5.  250 5. 观察涡轮分子泵读数到达 250 以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空到 观察涡轮分子泵读数到达 以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空到 2×10-3 达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达 2×10-3 以后才能开电子枪 达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达 以后才能开电子枪 电源。 电源。 DEF-6B 二、DEF-6B 电子枪电源柜的操作 二、 电子枪电源柜的操作 1.  1. 总电源 总电源 2.  2. 同时开电子枪控制 Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源：按电子枪控制 Ⅰ电源、延时开关，延时、 同时开电子枪控制 Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源：按电子枪控制 Ⅰ电源、延时开关，延时、 电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会 电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会 常亮。 常亮。 3.  10KV 200mA