台湾某半导体厂去除O2 和 CO2的案例研究.pdf

台湾去除O2 和 CO2的案例研究 一家台湾半导体厂使用Liqui -Cel 膜组件去除他们的超纯水（超纯水）系统溶 解气体。超纯水系统用于芯片厂的化学机械 抛光（CMP）的工艺用水。该水系统的台湾 的UPT设计和建造。 供水系统有两个脱气阶段。第一阶段从水中 去除二氧化碳和氧气，第二阶段的抛光系统 中把溶解氧降到5 ppb。 系统流程图1 第一级膜脱气系统处理流量：29 m3/hr（128 该超纯水系统使用（Ionpure的）CEDI(连续电脱 gpm）。它由2x2=4只10英寸，X- 盐)作为初级的去除水中离子和带电粒子系统。 IND膜组件构成（即，2只并联再串联1只）。这 系统用于设计去除在水中85%的二氧化碳。同时 给水水源是先经过反渗透（RO）处理的。反渗 透膜的能够去除自由离子，但气体会通过RO