刻蚀工艺培训教材.pptxVIP

刻 蚀 培 训技术质量部制绒扩散前酸洗丝网印刷及烘干烧结镀减反膜分类包装生产线工艺流程磷扩散形成pn结刻蚀刻蚀的种类1 干法刻蚀---等离子体刻蚀2 湿法刻蚀---化学腐蚀什么是等离子体？随着温度的升高，一般物质依次表现为固体、液体和气体。它们统称为物质的三态。当气体的温度进一步升高时，其中许多，甚至全局部子或原子将由于剧烈的相互碰撞而离解为电子和正离子。这时物质将进入一种新的状态，即主要由电子和正离子〔或是带正电的核〕组成的状态。这种状态的物质叫等离子体。它可以称为物质的第四态。等离子体的应用等离子体的产生等离子体刻蚀原理等离子体刻蚀是采用高频辉光放电反响，使反响气体激活成活性粒子，如原子或游离基，这些活性粒子扩散到需刻蚀的部位，在那里与被刻蚀材料进行反响，形成挥发性反响物而被去除。这种腐蚀方法也叫做干法腐蚀。等离子体刻蚀反响首先，母体分子CF4在高能量的电子的碰撞作用下分解成多种中性基团或离子。其次，这些活性粒子由于扩散或者在电场作用下到达SiO2外表，并在外表上发生化学反响。生产过程中，在中CF4掺入O2，这样有利于提高Si和SiO2的刻蚀速率。等离子体刻蚀工艺　在待刻蚀硅片的两边，分别放置一片与硅片同样大小的玻璃夹板，叠放整齐，用夹具夹紧，确保待刻蚀的硅片中间没有大的缝隙。将夹具平稳放入反响室的支架上，关好反响室的盖子。什么是湿法刻蚀化学腐蚀 在半导体生产中，半导体材料或金