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第三章 溅射镀膜; “溅射”: 指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子（或分子）从表面射出的现象。 溅射原子：射出的粒子，大多呈原子状态。 荷能粒子：轰击靶材，可以是电子、离子或中性粒子。 因离子在电场下易于加速并获得所需动能，故大多采用离子作为轰击粒子。该离子又称入射离子，这种镀膜技术又称为离子溅射镀膜或淀积。 ;直流溅射沉积装置;§3-1 溅射镀膜的特点 ;§3-2 溅射的基本原理;直流气体放电体系;（1）无光放电(AB区域 ) 当两电极加上直流电压时，???于宇宙线产生的游离离子和电子是很有限的（这些少量的正离子和电子在电场下运动，形成电流），开始时电流非常小，仅有10-16～10-14安培左右。此区是导电而不发光 ，无光放电区。;（2）汤森放电区（BC区 ） 随着电压升高，带电离子和电子获得了足够能量，运动速度逐渐加快，与中性气体分子碰撞产生电离，使电流平稳增加，但电压却受到电源的高输出阻抗限制而呈一常数。;（3）过渡区 （CD区域 ） 　离子轰击阴极，释放出二次电子， 二次电子与中性气体分子碰撞，产生更多的离子，这些离子再轰击阴极，又产生新的更多的二次电子。一旦产生了足够多的离子和电子后，放电达到自持，发生“雪崩点火”，气体开始起辉，两极间电流剧增， 电压迅速下降，放电呈现负阻特性。 ;（4）正常辉光放电