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实验 3 利用射频溅射法镀金属薄膜 实验时间： 2010. 10. 12 实验地点：福煤实验楼 D405 指导老师：吕晶老师 【摘 要】磁控溅射技术在薄膜制备领域广泛应用，通过射频溅射法镀金属 薄膜 实验可以进一步熟悉真空获得和测量，学会使用磁控镀膜技术，了解磁控镀膜 的原理及 方法和了解真空镀膜技术。 【关键字】磁控溅射；薄膜制备；镀膜技术 0 简介 溅射镀膜的原理是稀薄气体在异常辉光放电产生的等离子体在电场的作用 下，对 阴极靶材表面进行轰击，把靶材表面的分子、原子、离子及电子等溅射出 来，被溅射出 来的粒子带有一定的动能，沿一定的方向射向基体表面，在基体表面 形成镀层溅射镀膜 最初出现的是简单的直流二极溅射，它的优点是装置简单，但是 直流二极溅射沉积速率 低。在直流二极溅射装置中增加一个热阴极和辅助阳极，就 构成直流三极溅射。增加的 热阴极和辅助阳极产生的热电子增强了溅射气体原子的 电离，这样使溅射即使在低气压 下也能进行；另外，还可降低溅射电压，使溅射在 低气压，低电压状态下进行；同时放 电电流也增大， 并可独立控制，不受电压影 响。在热阴极的前面增加一个电极 （栅网状）， 构成四极溅射装置， 可使放电趋于 稳定，但是这些装置难以获得浓度较高的等离子体区， 沉积速度较低，因而未获得 广泛的工业应用。磁控溅射是由二极溅射基础上发展而来， 在靶材表面建立与电场 正交磁场，解决了