半导体薄膜技术与物理复习资料.pdfVIP

第一章 真空技术 1、真空 的定义：真空是指在给定的空间内压力低于一个大气压的稀薄气体 状态。 2 、真空度 ：通常用压强为单位来描述“真空”状态下的气体稀薄程度—— 真空度。 （压强高则真空度低，压强低则真空度高） 3、真空度单位 ： 毫米汞柱（ mmHg） 托（ Torr ） 帕斯卡（ Pa） 巴（bar ） 2 2 2 单位之间的换算： 1 Pa =1 牛顿/ 米 =1 千克/ 米* 秒 =10 达因 /cm =0.0075 Torr 4 、真空不同分区的特点 ：在气压高于 10 Torr 的真空范围区域，气体性质 和常压，气流特性也以分子间的碰撞为主 ; 当压力渐渐减小，分子密度降低， 平均自由程增加，分子间的碰撞开始减少；当达到高真空区域，真空特性以 气体分子和真空器壁的碰撞为主； 在超高真空区， 气体分子在空间活动减少， 而以在固体表面上吸附停留为主。 5、常用的真