一种并联结构的梯度线圈发明专利.pdfVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113009395 A (43)申请公布日 2021.06.22 (21)申请号 202110565739.7 (22)申请日 2021.05.24 (71)申请人 宁波健信核磁技术有限公司 地址 315301 浙江省宁波市慈溪市高新技 术产业开发区高科大道427号 (72)发明人 李兰凯　何群　李国超　陈仕兵　 刘照泉　 (74)专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 代理人 尹君君 (51)Int.Cl. G01R 33/385 (2006.01) G01R 33/34 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种并联结构的梯度线圈 (57)摘要 本发明公开了一种并联结构的梯度线圈，包 括：三套线圈和两个功率放大器，每套线圈均包 括两组并联结构的主线圈和两组并联结构的屏 蔽线圈，其中一组并联结构的主线圈和并联结构 的屏蔽线圈由一个功率放大器的一条通道驱动， 另一组并联结构的主线圈和并联结构屏蔽线圈 由另一个功率放大器的一条通道驱动。本发明提 供的梯度线圈采用并联的结构，具有热点温度低 的优点，能够降低冷却管路的设计和制造难度， 而且具有更高的梯度线性度，可以改善图像质 量；此外通过采用两个常规的功率放大器来同时 驱动线圈，降低了对驱动电源的性能要求，提高 A 了磁共振成像系统的可靠性，降低了系统的成 5 本。 9 3 9 0 0 3 1 1 N C CN 113009395 A 权　利　要　求　书 1/2页 1.一种并联结构的梯度线圈，其特征在于，包括： 第一线圈，所述第一线圈包括两组相互串联的第一主线圈和第一屏蔽线圈，两组所述 第一主线圈均包括相互并联的两个第一主指纹线圈，两组所述第一屏蔽线圈均包括相互并 联的两个第一屏蔽指纹线圈； 第二线圈，所述第二线圈包括两组相互串联的第二主线圈和第二屏蔽线圈，两组所述 第二主线圈均包括相互并联的两个第二主指纹线圈，两组所述第二屏蔽线圈均包括相互并 联的两个第二屏蔽指纹线圈； 第三线圈，所述第三线圈包括两组相互串联的第三主线圈和第三屏蔽线圈，两组所述 第三主线圈均包括相互并联的两个第三主螺线管线圈，两组所述第三屏蔽线圈均包括相互 并联的两个第三屏蔽螺线管线圈； 第一功率放大器，所述第一功率放大器用于分别驱动其中一组所述第一主线圈和所述 第一屏蔽线圈、其中一组所述第二主线圈和所述第二屏蔽线圈、其中一组所述第三主线圈 和所述第三屏蔽线圈； 第二功率放大器，所述第二功率放大器用于分别驱动另一组所述第一主线圈和所述第 一屏蔽线圈、另一组所述第二主线圈和所述第二屏蔽线圈、另一组所述第三主线圈和所述 第三屏蔽线圈。 2.根据权利要求1所述的梯度线圈，其特征在于，两个所述第一主线圈位于同一圆柱表 面，分别位于x轴的正半轴方位和负半轴方位，形成X主线圈层；两个所述第二主线圈位于同 一圆柱表面，分别位于y轴的正半轴方位和负半轴方位，形成Y主线圈层；两个所述第三主线 圈位于同一圆柱表面，分别位于Z轴的正半轴方位和负半轴方位，形成Z主线圈层；两个所述 第一屏蔽线圈位于同一圆柱表面，分别位于x轴的正半轴方位和负半轴方位，形成X屏蔽线 圈层；两个所述第二屏蔽线圈位于同一圆柱表面，分别位于y轴的正半轴方位和负半轴方 位，形成Y屏蔽线圈层；两个所述第三屏蔽线圈位于同一圆柱表面，分别位于z轴的正半轴方 位和负半轴方位，形成Z屏蔽线圈层。 3.根据权利要求2所述的梯度线圈，其特征在于，所述X主线圈层、所述Y主线圈层、所述 Z主线圈层、所述Z屏