陶瓷基上化学镀铜的研究.pdfVIP

陶瓷基上化学镀铜的研究 1 前言 陶瓷具有各向同性、高耐磨、高强度、高绝缘、低热膨胀系数等优良的性能。陶瓷表 面金属化不仅解决了陶瓷微粒与金属基体的浸润问题，而且通过焊接可使陶瓷与电子元件 相连接。因此，可广泛用于航空航天和微电子工业。 以甲醛作还原剂的化学镀铜液在施镀过程中除Cu2+被还原而沉积外，还存在形成Cu2O 及其歧化反应的副反应，从而导致镀液分解、沉积速率下降和镀层性能恶化等问题[1]。 故应在镀液中加入适宜的添加剂，如亚铁氰化钾和a，a’-联吡啶以提高镀液的稳定性， 减少副反应和改善镀层性能。董超[1]等应用电化学恒电势扫描法研究了a，a’-联吡啶、 L-精氨酸和亚铁氰化钾等添加剂的极化行为，指出这三种添加剂在化学镀铜中均起稳定作 用，但作用机理不尽相同。刘兴平研究了甲醇、亚铁氰化钾和a，a’-联吡啶对化学镀铜 液稳定性的影响，结果发现，三者混合使用对镀液的稳定效果比单独使用时好。本文探索 了镀液中存在a，a’-联吡啶和亚铁氰化钾时的化学沉积铜过程，根据镀液沉积速率经验 方程[3，4]，研究了镀液中a，a’-联吡啶和亚铁氰化钾对铜沉积活化能的影响，并探讨 了温度和添加剂对镀液和镀层性能的影响。 2 实验部分 2.1 镀液基础配方 镀液