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- 2021-11-27 发布于江西
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集成电路设计复习题
微电子导论复习题
第一章 绪
1.画出集成电路设计与制造的主要流程框架。
2.集成电路分类情况如何?
第二章 半导体物理和器件物理基础
1.什么是半导体?特点、常用半导体材料
2.掺杂、施主/受主、P型/N型半导体。半导体中的载流子、迁移率
3.PN结,为什么会单向导电,正向特性、反向特性,PN结击穿有几种
4.双极晶体管工作原理,基本结构,直流特性
5.MOS 晶体管基本结构、工作原理、I-V方程、三个工作区的特性,MOS 晶体管分类
第三章 大规模集成电路基础
1. 集成电路制造流程、特征尺寸
2. CMOS集成电路特点
3. MOS开关、CMOS传输门特性
4. CMOS反相器特性(电压传输特性、PMOS和NMOS工作区域)
5. CMOS组合逻辑:基本逻辑门、复合门、反相器、二输入与非、或非门
7. 闩锁效应起因?
第四章 集成电路制造工艺
1.集成电路工艺主要分几大类,各包括哪些主要工艺,并简述各工艺的主要作用
2.简述光刻的工艺过程
第五章 集成电路设计
1.层次化、结构化设计概念,集成电路设计域和设计层次
2.什么是集成电路设
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