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基电极匚 Q
C
N
基根b l
一:三极管的结构及类型 自 通过工艺货■法,把两个二极沾砰背胖
型,它们的以屋图和符号图分别为:户如图
发射总 ⑴ 6
三极管慵靠摭I占 O
Jerome-^ ,上
二 1 w 一 a—
J连接起来级组成了心管。按 PN1幅科合方式有PN理和NPN
( 1)、(2) — e
发射吗 ⑵ 3
不管是什麽样的三极管,它们均包含三个区:
基极,集电极。同时又在两两交界区形成 PN经
基区很薄、基电结的面积很大。
二:三极管的特性
射必得区集,.拥发射结
那,相应 和基点结。
P
的引出三个电极:发射极, 且制作时都是发射区中掺杂、
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个
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0.2 0.4 0.6
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饱和区.——
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1、输入特性
图4是三极管的输入特性曲线,函数表达式:
它表示 Ib 随 Ube 的变化关系,其特点是:
1)当Uce在0-2伏范围内,曲线位置和形状与 Uce有关,但当Uce高于2伏后,曲线与 Uce基本无
关,通常输入特性由两条曲线(U ce=0V和U ce=2V)表示即可。
2)当Ube UbeR时,Ib^O称(0?UbeR)的区段为“死区”当 Ube UbeR寸,Ib随Ube增加而增加,
放大时,三极管工作在较直线的区段。
2、输出特性
图 5 是三极管的的输出特性曲线,函数表达式:
它表示 Ic 随 Uce 的变化曲线,输出特性可分为三个区:
1)截止区:IB = 0时,此时的集电极电流近似为零,管子的集电极电压等于电源电压,两个结均反偏
2) 饱和区:此时两个结均处于正向偏置, UCE=0.3V
3)放大区:此时Ic=?Ib, Ic基本不随UCE变化而变化,此时发射结正偏,集电结反偏。
主要是放大区较为复杂,以 NPNE极管作简单描述如图 3,因为发射结正向偏置,且发射区进行重掺
杂,所以发射区的多数载流子扩散注入至基区,形成的电流为发射极电流 Ie, 又由于集电结的反向作用,
而注入至基区的载流子(电子)与基区的载流子(空穴)形成浓度差,因此这些载流子从基区扩散至集电
结,被电场拉至集电区形成集电极电流 Ic, 因为基区做的很薄,所以留在基区的发射区载流子很少,留下
的载流子(电子)与基区载流子(空穴)复合,被复合掉的基区空穴由基极电源 Eb 重新补纪念给,从而
形成了基极电流 Ib ,根据电流连续性原理便有: Ie=Ib+Ic ,即在基极补充一个很小的 Ib ,就可以在集电
极上得到一个较大的Ic ,这就是三极管电流放大作用, Ic与Ib是维持一定的比例关系,即: a=A Ic/
△Ib。
在开关电源里面三极管都用作开关作用, 截止区和饱和区是三极管工作在开关状态的区域,三极管
饱和导通时,工作点落在饱和区,三极管截止时,工作点落在截止区。
三,三极管的主要参数
1、直流参数
1)集电极-基极反向饱和电流 Icbo :发射极开路( Ie=0) 时,基极和集电极之间加上规定的反向电压
Vcb 时的集电极反向电流,它只与温度有关,在一定温度下是个常数,所以称为集电极一基极的反向饱和
电流。良好的三极管,Icbo很小,小功率错管的Icbo约为1?10微安,大功率错管的Icbo可达数毫安, 而硅管的 Icbo 则非常小,是毫微安级。
2)集电极-发射极反向电流 Iceo( 穿透电流) :基极开路( Ib=0 )时,发射极和集电极之间加上规定
反向电压Vce时的集电极电流。Iceo 大约是Icbo的a倍即Iceo=(1+ a)Icbo , Icbo和Iceo受温度影响
极大,它们是衡量管子热稳定性的重要参数,其值越小,性能越稳定,小功率锗管的 Iceo 比硅管大。
3)发射极-基极反向电流 Iebo : 集电极开路时,在基极与发射极之间加上规定的反向电压时发射极
的电流,它实际上是发射结的反向饱和电流。
4)直流电流放大系数 a1 (或 hEF) :这是指共发射接法,没有交流信号输入时,集电极输出的直流
电流与基极输入的直流电流的比值,即: a1=Ic/Ib
2、交流参数
1)交流电流放大系数 a (或hfe ):这是指共发射极接法,集电极输出电流的变化量△ Ic与基极输
入电流的变化量△ Ib之比,即:a= AIc/ AIb 一般晶体管的a大约在10-200之间,如果a太小,电 流放大作用差,如果 a 太大,电流放大作用虽然大,但性能往往不稳定。
2)共基极交流放大系数 a (或hfb):这是指共基接法时,集电极输出电流的变化是△ Ic与发射极
电流的变化量△ Ie之比,即: c=AIc/ △ Ie因为△ IcA Ie ,故a1o高频三极管的 a 0.90就可
以使
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