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白缺陷類- R透明異物 R透明異物特徵： 從穿透光中較易看出，如果從透射光去看可以看見當站製程衍生不明透明狀異物，打穿透光形成漏光現象。 反射光 透射光 黑缺陷類- RBM光阻異物 BM光阻異物特徵： 從反射光中較易看出，如果從透射光去看可以看見開口部有異物，形成遮光現象。 反射光 透射光 黑缺陷類- R光阻異物 R光阻異物特徵： 從反射光中較易看出，如果從透射光去看可以看見當站製程衍生出的不明異物，形成黑欠現象。 反射光 透射光 黑缺陷類- Lip光阻異物 Lip光阻異物特徵： 從反射光中較易看出，當站製程圖形中可以看見當製程異物呈現薄狀、條狀、帶狀異物。 反射光 透射光 黑缺陷類- 黑色異物 黑色異物特徵： 從反射光中較易看出，當站製程出現不明黑色異物，穿透光無法穿透，形成遮光現象。 反射光 透射光 黑缺陷類- 纖維異物 纖維異物特徵： 從反射光中較易看出，圖形成線長條不規則曲線。 反射光 透射光 黑缺陷類- 散佈金屬異物 散佈金屬異物特徵： 從反射光中較易看出，可以看見開口部有多數小碎形異物(經分析多為金屬)，利用穿透光無法穿透，形成遮光現象。 反射光 透射光 何謂Mura Mura本來是一個日本字，隨著液晶顯示器在世界各地發揚光大，成為一個全世界都可以通的文字。主要是指顯示器亮度不均勻造成各種痕跡的現象。 放射狀Mura 放射狀Mura特徵： 綠燈下可見放射狀色層差異，大多為基板在減壓乾燥時由於氣流和溫度的影響引起,以致光阻表面乾燥不均。 丘Mura 丘Mura特徵： 類似蝴蝶翅膀狀的點不均（兩個圓形交接），可能固定或不固定點。一般固定點常發生在HP/CP及EXP平台.清潔時如果無法使用無塵布擦拭掉可以配合使用滑石清潔。 CF制程简介雷清芳 簡報大綱 液晶顯示器的基本構成元件 彩色濾光片的結構 CF製程介紹 CF不良简介 何謂Color Filter Color Filter 彩色的LCD需要用到彩色濾光片（Color Filter），經由控制IC的訊號處理，使得從背光源發射的強光，可利用彩色濾光片的處理，表現出彩色的畫面。 彩色濾光片之製作是於玻璃基板上，將紅、綠、藍三原色之有機材料，製作在每一個畫素之內。 1.TFT LCD是由兩片玻璃所組成，上端是CF ，下端是TFT，中間夾著一層液晶，再搭配偏光板、背光板及驅動電路等元件，形成為一顯示器模組。 Glass CF TFT-LCD面板剖面圖 液晶 Glass 偏光片 背光燈管 驅動IC板 TAB IC TFT 偏光片 液晶顯示器的基本構成元件 R G B 彩色濾光片結構 0.3~0.7T RBM 1.2μm CF剖面圖 CF俯視圖 BM製程 1. 功用：遮光效用，防止TFT產生光電效應進而產生誤動作; 防止兩色相混，使兩顏料不會混合在一起; 增進色彩對比性; 2. Cr BM製程 樹脂BM製程 基板 黑色光阻 光阻塗佈 曝光 UV光源 光罩 顯影 Cr成膜 UV光源 光罩 硬烤BM形成 RGB BM OC ITO MVA PS 基板 光阻塗佈 曝光 顯影 蝕刻 光阻剝離BM形成 光阻 鍍鉻製程(Sputtr Cr) 基板 Ar＋ 靶材Cr 二次電子 通入 氣體 Ar 自由電子 抽真空 原理：利用高壓電場將通入的氣體分子Ar游離成Ar+離子和電子，再以電場加速Ar+離子撞擊Target，Target原子就會被撞擊出來，沉積在基板上。 UV燈 烘烤 顯影 BM - 基板 紅色光阻塗佈 曝光 光罩 綠色藍色 曝光部分因聚合 而失去溶解性。 洗去未曝光部分， 形成所需圖案樣式。 加熱以硬化殘 留之負型光阻。 RGB製程 RGB BM OC ITO MVA PS 正/負型光阻 正型光阻 :開口曝光~光阻不保留 負型光阻 :開口曝光~光阻保留 CF廠一般機種製造流程 導入OC材機種製造流程 OC OC製造流程 OC層的作用說明： 使色層平坦化與保護層的作用，提升後段製程良率。 ITO BM+RGB RGB BM OC ITO MVA PS 鍍ITO製程(Sputtr ITO) 所謂ITO是指Indium(銦)及Tin(錫)的氧化合物，因為透明又具導電性，所以又稱透明導電膜。 RGB基板 鍍好ITO膜之基板 濺鍍 ITO靶 RGB BM OC ITO MVA PS MVA 製程 Glass Input 水洗段Clean MVA光阻塗佈 顯影 AOI檢查 Oven 曝光製程 Glass Output RGB BM OC ITO MVA PS MVA製程 (多象限垂直配向)Multi-domain Vertical Alignment 藉由