基于等离子体约束的LPP-EUV光源系统.docxVIP

2022年-2023年 2022年-2023年 （19）中华人民共和国国家知识产权局 （12）发明专利申请 （21）申请号 CN202222290425.6 （22）申请日 2022.04.14 （71）申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所 地址 202200 上海市嘉定区清河路 390 号 （10）申请公布号CN111399346A （43）申请公布日 2022.07.10 （72）发明人 张宗昕;冷雨欣;王成;程欣;王关德;孙海轶;彭宇杰;王雪培 （74）专利代理机构 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 代理人 张宁展 （51）Int.CI 权利要求说明书 说明书 幅图 （54）发明名称 基于等离子体约束的 LPP-EUV 光源系统 （57）摘要 一种基于等离子体约束的 LPP EUV 光源系统，包括泵浦激光脉冲源、带有光学窗片的真空室、凸透镜、靶材、磁镜装置和椭球面镜。由泵浦激光脉冲源产生泵浦激光脉冲，泵浦激光脉冲通过光学窗片进入真空室，再经凸透镜聚焦而作用于靶材。泵浦激光脉冲作用于靶材而产生等离子体，等离子体被约束在磁镜装置中而产生 EUV 辐射，所产生的 EUV 辐射经椭球面镜反射而聚焦。本发明利用磁镜装置中非均匀磁场对等离子