薄膜黃光蝕刻製程簡介顏良富、簡鼎杰;薄膜技術簡介; Sputter ITO技術介紹;大 綱;Touch panel ITO layer剖面圖;透明導電膜
可視透過率>90﹪以上
(400~700nm),sheet抵抗180 Ω/□以下
高品質透明導電膜的基本要求:
高透過率,低sheet抵抗值。
ITO (Indium-Tin-Oxide):
與其他透明導電膜比較(IZO),ITO膜的性能好,生產安定性佳。;濺鍍(Sputtering);濺鍍的原理;ITO 製程腔室Chamber說明;ITO成膜特性介紹;成膜方式;成膜方式(續);熱剖面圖;ITO 膜厚之決定方式;ITO 製程調校;ITO = Indium Tin Oxide
90 wt. % In2O3-10 wt.% SnO2;ITO 靶材製造流程;ITO 靶材製程種類;HP (Hot Press) 製程法;CP (Cool Press) 製程法;MMF (Mitsui Membrane Filter) 製程法;ITO 靶材製程種類與密度特性;ITO 靶材技術發展方向;品 質 異 常 處 理;特性值(膜厚、阻抗值、透過率)數值稍差調整;特性值(阻抗或透過率)數值異常之可能發生因素;靶材更換後,真空異常之可能原因;黃光技術簡介;綱要;黃光工程基本概念;黃光工程基本概念;黃光製程
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