拓荆科技-市场前景及投资研究报告-国产薄膜沉积设备产业化,PECVD+ALD+SACVD.pdfVIP

拓荆科技-市场前景及投资研究报告-国产薄膜沉积设备产业化,PECVD+ALD+SACVD.pdf

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证 券 研 究 报 告 2022 年 4月 21 日 【方正电子 ·公司深度报告】拓荆科技(688072) 国产薄膜沉积设备产业化先锋 布局PECVD+ALD+SACVD 投资要点 ◼ PECVD+SACVD+ALD,国产薄膜沉积产业化先锋。公司核心团队具备诺发/爱思强/Intel 等大厂技术背景 ,为多项PECVD/ALD/SACVD国家专项牵头人。大基金/ 中微/ 国投等资本 支持下 ,公司是国内唯一一家产业化应用PECVD、SACVD设备的厂商 ,具备不可替代性。 ◼ 客户覆盖核心晶圆厂,持续受益扩产成就规模化成长。2022年往后看 ,内资晶圆厂12吋潜 在扩产产能至少155万片/月 ,支撑3-4年高景气扩产周期。公司客户 /长存/华虹/晶 合/粤芯/长鑫 ,覆盖下游核心晶圆厂 ,未来将持续受益下游扩产实现高速规模化成长。 ◼ 贸易争端威胁供应链安全, 势在必行。全球半导体设备市场呈现日、欧、美供应商 垄断态势 ,中国大陆半导体设备综合自给率很低。大国博弈背景下 ,保证产业供应链安全迫 在眉睫;国产化下国内设备厂商厚积薄发 ,高速放量。 盈利预测 ◼ 盈利预测:我们预计公司2022-2024年 单位/百万 2021 2022E 2023E 2024E 营业总收入 758 1239 1894 2625 营业收入分别为12.4/18.9/26.3亿元, (+/-)(%) 73.99 63.43 52.91 38.59 归母净利润分别为1.3/2.3/3.7亿元,首 归母净利润 68 129 230 371 次覆盖,给予“推荐”评级。 (+/-)(%) 696.10 87.75 78.93 61.35 ◼ 风险提示: (1)下游晶圆厂扩产不及 EPS(元) 0.72 1.02 1.82 2.93 ROE(%) 5.74 3.73 6.25 9.17 预期;(2)产业研发与产业化应用不 P/E 0.00 99.93 55.85 34.61 及时;(3)上游供应紧张影响出货。 P/B 0.00 3.73 3.49 3.17 资料来源:wind、集微咨询、拓荆科技招股书、方正证券研究所整理 2 目录 1 拓荆科技:国产薄膜沉积设备先锋 2 财务分析:营收高速增长,合同负债创新高 3 产品实力:技术铸就极强不可替代性 4 市场需求:沉积需求叠加, 高景气 5 盈利预测 3 pZlWrXbVaXlXfXqNaQaObRmOoOoMtReRqQqMeRsQtQaQpPrOvPnQqRuOoMzQ 拓荆科技:国产薄膜沉积产业化先锋 ◼拓荆科技成立于2010年,主营半导体薄膜沉积设备,PECVD、ALD、SACVD

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