米勒平台问题提出和解决.docxVIP

问题提出 在进行MOS管开通时候观察Vgs和Vds的波形，会看到Vgs有一个小平台 通过减小门级电阻阻值可以减小平台出现的时间，将电阻由5k改为1K再次仿真，这个平台几乎没有了 下面根据mos管等效模型来进行解释 二、原理解释 我们通常看到的MOS管图形是左边这种，右边的称为MOS管的等效模型。 其中：Cgs称为GS寄生电容，Cgd称为GD寄生电容，输入电容Ciss=Cgs+Cgd，输出电容Coss=Cgd+Cds，反向传输电容Crss=Cgd，也叫米勒电容。 （输入电容Ciss，指的是DS短接，用交流信号测得的GS之间的电容，Ciss由GS电容和GD电容并联而成，即Ciss=Cgs+Cgd，当输入电容充电至阈值电压，MOS管才打开，放电至一定的值，MOS管才关闭，所以Ciss和MOS管的开启关闭时间有很大的关系。 输出电容Coss，指的是GS短接，用交流信号测得的DS之间的电容，Coss由GD电容和DS电容并联而成，即Coss=Cgd+Cds 反向传输电容Crss，指的是S接地，GD之间的电容，即Crss=Cgd） 米勒效应的罪魁祸首就是米勒电容，米勒效应指其输入输出之间的分布电容Cgd在反相放大的作用下，使得等效输入电容值放大的效应，米勒效应会形成米勒平台。 首先我们需要知道的一个点是：因为MOS管制造工艺，必定产生Cgd，也就是米勒电容必定存在，所以米勒效应不可避免。 那么，米勒效应的缺点是什么呢？ 答：开启时间变长，MOS管损耗增加 OS管的开启是一个从无到有的过程，MOS管D极和S极重叠时间越长，MOS管的导通损耗越大。因为有了米勒电容，有了米勒平台，MOS管的开启时间变长，MOS管的导通损耗必定会增大。 仿真时我们将G极电阻R1变小之后，发现米勒平台有改善？原因我们应该都知道了。 MOS管的开启可以看做是输入电压通过栅极电阻R1对寄生电容Cgs的充电过程，R1越小，Cgs充电越快，MOS管开启就越快，这是减小栅极电阻，米勒平台有改善的原因。 在米勒平台究竟发生了什么？ 以NMOS管来说，在MOS管开启之前，D极电压是大于G极电压的（cgd上正下负），随着输入电压的增大，Vgs在增大，Cgd存储的电荷同时需要和输入电压进行中和，因为MOS管完全导通时，G极电压是大于D极电压的。 所以在米勒平台，是Cgd充电的过程，这时候Vgs变化则很小，当Cgd和Cgs处在同等水平时，Vgs才开始继续上升（Cgd和Cgs电荷电量相等才会继续上升）。 我们以下右图来分析米勒效应，这个电路图是一个什么情况？ MOS管D极负载是电感加续流二极管，工作模式和DC-DC BUCK一样，MOS管导通时，VDD对电感L进行充电，因为MOS管导通时间极短，可以近似电感为一个恒流源，在MOS管关闭时，续流二极管给电感L提供一个泄放路径，形成续流。 MOS管的开启可以分为4个阶段： t0~t1阶段 从t0开始，G极给电容Cgs充电，Vgs从0V上升到Vgs(th)时，MOS管都处于截止状态，Vds保持不变，Id为零。（先给Cgs充电，然后中和Cgd上的电荷） t1~t2阶段（导通但没有进入米勒平台阶段） 从t1后，Vgs大于MOS管开启电压Vgs(th)，MOS管开始导通，Id电流上升，此时的等效电路图如下所示，在IDS电流没有达到电感电流时，一部分电流会流过二极管，二极管DF仍是导通状态，二极管的两端处于一个钳位状态，这个时候Vds电压几乎不变，只有一个很小的下降（杂散电感的影响）。 t2~t3阶段 随着Vgs电压的上升，IDS电流和电感电流一样时，MOS管D极电压不再被二极管DF钳位，DF处于反向截止状态，所以Vds开始下降，这时候G极的驱动电流转移给Cgd充电，Vgs出现了米勒平台，Vgs电压维持不变，Vds逐渐下降至导通压降VF。 t3~t4阶段 当米勒电容Cgd充满电时，Vgs电压继续上升，直至MOS管完全导通。 下面，结合MOS管输出曲线，总结一下MOS管的导通过程。 t0t1，MOS管处于截止区；t1后，Vgs超过MOS管开启电压，随着Vgs的增大，ID增大，当ID上升到和电感电流一样时，续流二极管反向截止，t2t3时间段，Vgs进入米勒平台期，这个时候D极电压不再被续流二极管钳位，MOS的夹断区变小，t3后进入线性电阻区，Vgs则继续上升，Vds逐渐减小，直至MOS管完全导通。