半导体材料第六章新.ppt

SEM的成像原理 扫描电镜的成像原理，象闭路电视系统那样，用电子束在样品表面逐点逐行扫描成像。 由三极电子枪发射出来的电子束，在加速电压作用下，经过2-3个电子透镜聚焦后，在样品表面按顺序逐行进行扫描，激发样品产生各种物理信号，如二次电子、背散射电子、吸收电子、X射线、俄歇电子等。 这些物理信号的强度随样品表面特征而变。它们分别被相应的收集器接受，经放大器按顺序、成比例地放大后，送到显像管。 供给电子光学系统使电子束偏向的扫描线圈的电源也是供给阴极射线显像管的扫描线圈的电源，此电源发出的锯齿波信号同时控制两束电子束作同步扫描。 样品上电子束的位置与显像管荧光屏上电子束的位置是一一对应。这样，在荧光屏上就可显示样品表面起伏的二维图像。 第二十九张，课件共五十九张，编辑于2022年5月 扫描电镜系统组成 (1) 电子光学系统（镜筒）(2) 扫描系统(3) 信号收集系统(4) 图像显示和记录系统(5) 真空系统(6) 电源系统 第三十张，课件共五十九张，编辑于2022年5月 SEM样品制备 SEM 固体材料样品制备方便，只要样品尺寸适合，就可以直接放到仪器中去观察。样品直径和厚度一般从几毫米至几厘米，视样品的性质和电镜的样品室空间而定。 对于绝缘体或导电性差的材料来说，则需要预先在分析表面上蒸镀一层厚度约10～20 nm的导电层。否则，在电子束照射到该样品上时，会形成电子堆积，阻挡入射电子束进入和样品内电子射出样品表面。导电层一般是二次电子发射系数比较高的金、银、碳和铝等真空蒸镀层。 第三十一张，课件共五十九张，编辑于2022年5月 透射电子显微术 分辨率：0.2nm； 放大倍数：150万倍。 应用：缺陷（位错、层错、晶格点阵无序） 第三十二张，课件共五十九张，编辑于2022年5月 透射电镜：是以波长极短的电子束作为照明源，利用透射电子通过磁透镜聚焦成像的一种具有高分辨本领、高放大倍数的电子光学仪器。 四部分：电子光学系统、电源系统、真空系统、操作控制系统 第三十三张，课件共五十九张，编辑于2022年5月 制样技术 由于电子束的穿透力较弱，难以穿过0.1 μm以上的切片，所以TEM对样品的厚度有极高的要求。因此，制样技术是TEM应用中非常重要的一个环节。 透射电镜样品非常薄，约为100nm，必须用铜网支撑着。常用的铜网直径为3mm左右，孔径约有数十μm。 第三十四张，课件共五十九张，编辑于2022年5月 电子能谱技术 用能量足够高的高能粒子（光子和电子）入射被分析材料，使之发射具有特征能量的电子或同时相伴发射具有特征能量的光子，收集这些发射电子和光子，通过对其特征能量的分析，从而推断被分析材料的组分的技术，统称为电子能谱术。 分析技术 高能电子入射 光子或X射线 俄歇能谱法AES X光能谱法XES 阴极荧光光谱法 X光光电子能谱法XPS X射线衍射方法 扫描电子显微镜SEM 透射电子显微镜TEM 高能离子入射 二次离子质谱法 第三十五张，课件共五十九张，编辑于2022年5月 X射线在晶体中的衍射 X射线波长很短（其波长范围为10nm-0.001nm）、能量极高、具有很强的穿透能力。广泛用于工业生产、医学影像、地质勘探和材料科学研究中，发挥着巨大的作用 在晶体中原子的间距和x射线波长具有相同的数量级，在一定方向上构成衍射极大。 第三十六张，课件共五十九张，编辑于2022年5月 X射线衍射技术 XRD （X-ray Diffraction） Bragg定律 2dhklsin? =n? 是入射X射线的波长， 是晶面族的面间距， 是布喇格衍射角， 表示衍射级数的整数 对某一晶体来说dhkl是确定不变的，当?一定时只有特定的?值才能满足以上方程，也就是说只有晶体处于某一方位时才能产生衍射。 第三十七张，课件共五十九张，编辑于2022年5月 晶面间距(d)公式： 立方晶系： 四方晶系： 正交晶系： 第三十八张，课件共五十九张，编辑于2022年5月 X射线衍射仪测试原理示意图  第三十九张，课件共五十九张，编辑于2022年5月 XRD技术的应用 粉末x射线衍射 高分辨率X射线双晶衍射 高分辨率X射线双晶衍射是指测量样品的摇摆曲线（rocking curve）。摇摆曲线是指衍射强度随X射线入射角（X射线入射线与样品表面的夹角）变化的曲线。研究材料的结晶完整性、均匀性、层厚、组分、应变、缺陷和界面等信息时，高分辨率X射线双晶衍射方法具有独特优势 。从样品的X射线摇摆曲线主要可获知外延层晶格质量、失配度的正负及大小、各层厚度及量子阱结构材料的周期特性等信息 （DCXRD: Double crystal X-ray diffraction） 主要测量单晶的材料