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真空紫外辐照非金属材料环境效应与机理分析进展
综述了近年来国内外真空紫外辐照硅橡胶、聚酰亚胺薄膜等常用空间非金属材料环境效应方面的研究进展。研究结果说明,真空紫外辐照可造成非金属材料分子键断裂,出气性能增强,使热控涂层的光学性能显著降低。另外,对环境效应的理论研究也开展了概述。借助FTIR、XPS等手段,研究了紫外线与材料的作用机理;基于分子污染理论及辐照化学反应机理,建立了紫外辐照质量损失与污染物沉积模型。通过对该方面国内外研究的比照,提出了国内应加强真空紫外辐照出气与污染效应理论研究的建议。 引言 真空紫外线因光子能量较高,会对非金属材料造成损伤,从而加剧航天器敏感表面的污染效应,并可能引起增强效应。这将成为制约航天器在轨长寿命、高可靠运行的重要因素。 真空紫外辐射环境效应主要表现为:辐照造成非金属材料分子链的断裂,增大了出气速率;当太阳紫外线照射到材料出气形成污染云时,污染云内的分子键断裂,容易在敏感表面发生“定影”,形成“永久性”污染;当太阳紫外辐照敏感表面的污染物膜层时,小分子污染物移动(扩散)并聚集到一起形成较大的颗粒,增加了污染分子在敏感表面的滞留时间,造成了污染物沉积量增加。 国外对真空紫外辐照非金属材料的环境效应及机理已有相当的研究,国内相关的研究则不多,且主要集中在环境效应与材料损伤机理分析方面。国内外真空紫外辐照非金属材料引起的环境效应与机理,并对国内该领域的研究做了展望。 1、真空紫外辐照环境效应与机理 1.1、国外真空紫外辐照环境效应 国外主要是从理论出发,分析光子与材料相互作用的微观机理,在此根底上,从模拟试验出发,应用不同的分析手段(光学显微镜、SEM、XPS、FTIR等)表征了材料的微观损伤效应。如Grossman等对FEP在真空紫外作用下表面形态及质量变化开展了研究。结果说明,在真空紫外线作用下,FEP表面粗糙程度由原来的8 nm上升到14 nm。质损测试结果说明,真空紫外线仅对不含C-H键的聚合物造成质损,试验结果是通过对聚乙烯(PE),聚氟乙烯(Tedlar)、乙烯-四氟乙烯共聚物(Tefzel)和氟化乙烯丙烯共聚物(FEP)比较得到的。Haffke等研究了CV-1144-O有机硅共聚物的真空紫外辐照性能。CV-1144-O经过紫外辐照20 h即产生了明显的光学常数变化。 Dever等与Boeder等研究了真空紫外对硅橡胶性能的影响。详细研究了真空紫外对DC93-500穿透深度的影响,及不同波长或不同强度真空紫外对DC93-500光学性能的影响。研究结果显示,紫外辐照显著降低了DC93-500的发射率,特别是波长在185 nm 以上紫外线的影响较大。185 nm以下真空紫外对DC93-500的穿透深度小于1 μm,而185~200 nm真空紫外线造成了硅橡胶的发射率急剧降低,穿透深度也到达了1~3 μm。Verkhovtseva 等[5]研究了PET 薄膜的真空紫外辐照性能。使用5~200 nm真空紫外辐照后,PET薄膜的拉伸强度和断裂伸长率均轻微下降。随VUV注量增加,PET 薄膜的吸光率显著增加。使用XPS、FTIR及ESR测试发现,C-O断裂发生脱羰反应,从而使分子链内苯环自由基密度增加,出现碳化趋势或形成富碳态。自由基浓度增加造成了PET光学性能退化。Luey等[6]研究了双组份污染膜的紫外光化学过程。 研究说明,DC704和DOP双组份污染膜在真空紫外辐照过程中出现了光聚合反应。Cheever等研究了紫外辐照DC704硅油对二次表面镜ZOT涂层的污染效应。污染物使二次表面镜的太阳吸收率αs由0.07升高至0.20,并随辐照时间增加而增加。Miles等使用145 keV电子和紫外对阳极化氧化铝热控涂层开展了辐照。相比可见光和红外区域,紫外辐射可对热控涂层造成显著损害。Keith等和Kazuyuki等研究了真空紫外对分子污染解吸性能的影响。主要研究了VUV强度和薄膜表面温度对DEHP薄膜光分解与光固化性的影响。紫外辐照可使DEHP发生光聚合反应和光固化反应。在43.3 h的紫外辐照试验中,在QCM上收集到光聚合反应生成凝结物的量为0.016 μg/cm2。 2、结语 真空紫外辐照硅橡胶、聚酰亚胺等非金属材料的穿透深度仅为微米级,光子能量集中作用在材料表面,使材料表面产生解吸与化学反应等过程,加剧了材料出气,从而为航天器光学敏感表面造成了严重的污染效应。为此,国外NASA、ESA等机构已对真空紫外辐照污染效应及机理开展了多方面的研究,建立了材料出气与污染物沉积模型,研究结果也与模拟试验结果较吻合,同时也为设计师筛选材料提供一定的理论依据。而国内在该方面仅开展了一些常用空
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