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真空在镀膜工业中的应用 真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支，它已广泛地应用于光学、电子学、能源开发，理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法。  如果从真空镀膜的目的是为了改变物质表面的物理、化学性能的话，这一技术又是真空表面处理技术中的重要组成部分，其分类如下表 6 所示。现就其几个主要应用方面做一简单介绍。  首先在光学方面，一块光学玻璃或石英表面上镀一层或几层不同物质的薄膜后，即可成为高反射或无反射(即增透膜)或者作任何预期比例的反射或透射材料，也可以作成对某种波长的吸收，而对另一种波长的透射的滤色片。高反射膜从大口径的天文望远镜和各种激光器开始、一直到新型建筑物的大窗镀膜茉莉，都很需要。  增透膜则大量用于照相和各种激光器开始、一直到新型建筑物的大窗镀膜玻璃，都很需要。增透膜则大量用于照相机和电视摄象机的镜头上。在电子学方面真空镀膜更占有极为重要的地位。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器，约瑟夫逊器件、电荷耦合器件( CCD )也都甬道各种薄膜。  在显示器件方面，录象磁头、***度录象带以及平面显示装置的透明导电膜、摄像管光导膜、显示管荧光屏的铝衬等也都是采用真空镀膜法制备。在元件方面，在真空中蒸发镍铬，铬或金属陶瓷可以制造电阻，在塑料上蒸发铝、一氧化硅、二氧化钛等可以制造电容器，蒸发硒可以得到静电复印机用的硒鼓、蒸发钛酸钡可以制造磁致伸缩的起声元件等等。真空蒸发还可以用于制造超导膜和惯性约束巨变反应用的微珠镀层。  此外还可以对珠宝、钟表外壳表面、纺织品金属花纹、金丝银丝线等蒸镀装饰用薄膜，以及采用溅射镀或离子镀对刀具、模具等制造超硬膜。近两年内所兴起的多弧离子镀制备钛金制品，如不锈钢薄板、镜面板、包柱、扶手、高档床托架、楼梯栏杆等目前正在盛行。  表 6 真空表面处理技术的分类  表面处理目的  处理方法  粒子运动能量  工作方式  等离子体  高真空  薄膜沉积（表面厚度增加）  PVD  真空蒸发镀膜  0.1~1ev  等离子熔射辉光放电分解  电阻加热蒸发  加子束蒸发  真空电弧蒸发  真空感应蒸发  分子束外延  蔗农溅射镀膜  10~100ev  放电方式：直流、交流、高频  电极数值： 2 级、 3 级、 4 级  反应溅射、磁控溅射、对向靶溅射  离子束溅射镀膜  真空离子镀膜  数 10~5000ev  直流二级型  多阴极型  ARE 型、增强 ARE  HCD 型  高频型  单一离子束镀膜  集团离子束镀膜  CVD  化学反应热扩散  等离子增强化学气和沉积（ PCVD ）  低压等离子化学气相沉积  （ LPCVD ）  微细加工（表面厚度减少）  离子刻蚀  数百 ev~ 数 kev  高频溅射刻蚀  等离子刻蚀  反应离子刻蚀  离子束刻蚀  反应离子束刻蚀  电子束刻蚀  X 射线曝光  表面改性（不改变表面厚度）  离子注入  数 kev~1000kec  活性离子冲击离子氮化  离子注入 真空科学的应用领域: 真空在输运、吸引、起吊及真空造型等设备中的应用 真空在电真空器件中的应用 真空在镀膜工业中的应用 真空在食品包装及冷冻干燥工业中的应用 真空在航天工业中的应用 真空在加速器及受控核聚变中的应用