波长渐变膜的设计与制备.docxVIP

波长渐变膜的设计与制备 基于实际使用中的需求，使用磁控溅射的方法，在50 G 窄带光学膜的根底上，通过使用挡板遮挡，在玻璃上镀制不同厚度的膜层，在不同物理位置实现中心波长渐变的50 G 窄带光学膜。  光学薄膜是现代光学器件的重要组成部分，它通过在各种光学材料的表面镀上一层和多层膜，利用光的干预效应改变透射光或反射光的偏振、相位及能量。  光学薄膜器件广泛地应用于光通信网络中，随着信息时代的到来、国际互联网和各种信息业务迅速发展，尤其是视频和语音等多媒体业务的发展，对光纤通信网络带宽和容量的需求越来越高，对光学薄膜的设计和工艺也提出越来越高的要求。  窄带光学膜广泛应用于光通讯DWDM，以及光纤干路中的检测监控，设计和工艺相比照较成熟。但是，目前的光学薄膜多基于在基底上均匀镀制膜层，整个基底上的各个部分的光学性能几乎一致，很少见在同一基底上同时镀制不同光谱性能薄膜的研究和报道。  随着光通讯的发展，通讯干路中包含的信息容量以及光频道越来越多，如果使用普通的光学薄膜， 需要每个通道使用一个光学薄膜以及配套的光学器件， 但是波长渐变膜只需要一套器件就可以实现在干路中同时检测多达40 个频道的光信号，节省了大量的空间以及器件。  波长渐变膜是指薄膜通带的中心波长从中心向边缘逐渐变大，基于普通的50 G 窄带，通过膜层厚度的空间渐变来实现中心波长的空间变化。一般使用具有固定轮廓的掩模板，基片靠近掩模板并相对于掩模板旋转，基片不同半径处相对于溅射源的张角不同，得到不同的平均沉积速率。  本文介绍了波长渐变膜的设计方法和光学性能，使用自制的掩模板和掩模板切换装置，在磁控溅射机内镀制波长渐变膜的工艺过程并分析结果。  1、波长渐变膜的设计和光学性能  根据使用需求，波长渐变膜需要包含40 个通道，每个通道的光谱性能要求如下表1：  表1 波长渐变膜各通道的光学性能  其光谱曲线示意图如图1 所示(仅标出其中的几个通道作为例如)。  图1 波长渐变膜不同频道的光谱性能  波长渐变膜在基片半径方向的构造如图2所示：  图2 波长渐变膜在基片半径方向的构造  本文在双面抛光的玻璃上镀膜，一面为波长渐变膜，另一面为增透膜。增透膜反射率-38 dB，因增透膜工艺已经很成熟，且多见于报道，本文不作详述。  本文使用基于Matlab 编程的TFO 设计软件，参考50 G 窄带的设计，以玻璃为基底，使用SiO2和Ta2O5/Nb2O5 为高低折射率材料，图3 是一个设计实例：  图3 用于波长渐变膜的50G 窄带膜系设计  用该设计模拟的薄膜光谱性能如图4 所示。  图4 50 G 窄带设计的模拟光谱曲线  5、结论  介绍了波长渐变膜的光学性能和设计方法，镀膜工艺，测量方法。使用自行设计的掩模板和掩模板切换装置，在高真空环境下镀制了波长渐变膜。测量结果说明，这种技术制备的波长渐变膜符合设计要求，能满足市场需求。