晶硅太阳能电池加工工艺课件.pptVIP

PECVD工艺 第三十一页，共八十八页。 PECVD工艺 第三十二页，共八十八页。 PECVD工艺 第三十三页，共八十八页。 PECVD工艺 第三十四页，共八十八页。 PECVD工艺 第三十五页，共八十八页。 PECVD工艺 第三十六页，共八十八页。 PECVD工艺 第三十七页，共八十八页。 PECVD工艺 第三十八页，共八十八页。 PECVD工艺 第三十九页，共八十八页。 PECVD工艺 第四十页，共八十八页。 PECVD工艺 第四十一页，共八十八页。 PECVD工艺 第四十二页，共八十八页。 PECVD工艺 第四十三页，共八十八页。 PECVD工艺 第四十四页，共八十八页。 PECVD工艺 第四十五页，共八十八页。 PECVD工艺 第四十六页，共八十八页。 PECVD工艺 第四十七页，共八十八页。 PECVD工艺 第四十八页，共八十八页。 PECVD工艺 第四十九页，共八十八页。 PECVD工艺 SiNA系列PECVD设备是德国RothRau AG公司所生产，SiNA 是德文Silizium（硅）-Nitrid（氮）-Anlage（处理系统）的缩写。按照产量将该系列不同机型标识为“L”，“XL”, “XXL”。型号的不同主要取决于载板的大小，真空舱的尺寸，等离子体源的个数，真空泵抽真空的速度，这些因素都将影响生产循环所需的时间。 等离子产生方式：微波（2.45GHz）。 R