EAST全超导托卡马克装置清洗及涂覆壁处理技术发展与应用.docxVIP

EAST全超导托卡马克装置清洗及涂覆壁处理技术发展与应用 在托卡马克装置中，壁处理技术是提高高温等离子体性能的一个关键手段，主要用于抑制等离子体杂质，降低粒子边界再循环，控制氢同位素比例，提高等离子体品质，保证高参数、长脉冲等离子体运行。  从 20** 年 EAST 全超导托卡马克装置建成并开始运行以来，发展了不同先进壁处理技术，为等离子体提供了良好的器壁环境，为EAST装置取得的系列进展创造了基本条件。这些壁处理技术主要包括器壁清洗技术（烘烤、如磁场不兼容的直流辉光放电清洗、能在强磁场环境中工作的离子回旋放电清洗等），以及硼化、硅化、锂化涂覆壁处理技术。  在全碳壁条件下，通过长时间烘烤（250oC）和直流辉光放电清洗，EAST装置等离子体放电真空室真空可以到达2x10-6Pa。利用离子回旋放电清洗可以在强磁场条件下工作的特点，放电间隙离子回旋清洗可以快速去除滞留在器壁的氢同位素，改善粒子再循环。由于同位素交换，采用氘离子回旋清洗更有利于去除器壁中氢，降低氢在等离子体中比例。  氧化壁处理可以有效去除碳-氘在器壁的沉积层，释放氢同位素，是未来聚变装置去除 T 的主要潜在手段。20** 年 EAST 装置建成运行后，利用直流辉光放电或者离子回旋放电，对面对等离子体的器壁表面涂覆一种适合等离子体放电的几百纳米薄膜，如硼化（C2B10H12+He/D2