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正版课件 内容可修改;半导体光电子器件;第二章:半导体光电子器件物理基础;§2.1 pn结的物理基础;§2.1 pn结的物理基础;§2.1 pn结的物理基础;§2.1 pn结的物理基础;§2.2 非平衡pn结;§2.2 非平衡pn结;§2.2 非平衡pn结;第二章半导体光电子器件物理基础;§2.3 非平衡pn结的能带结构与载流子分布;§2.3 非平衡pn结的能带结构与载流子分布;§2.4 pn结的直流电学特性; 小注入条件下,x=xn处,空穴的扩散流密度;若;温度对电流密度的影响很大;Si -pn结理论曲线与和实验曲线的示意图; 2. 正偏小电流:
空间电荷区内载流子浓度高于平衡值;
载流子的复合高于产生,有净的复合流;
正向电流应为正向扩散流与空间电荷区净复合流之和。
Si和GaAs,在电小流时,复合电流起支配作用,影响不可忽略;随电流密度增大,复合电流的影响减小,理论与实验逐渐相符。
Ge pn结,正向扩散流密度远高于复合流,在正向电流密度不是很大时,理论曲线与实验数量符合较好。;;对于突变结;n区少子数量;三、等效电路 ; pn结反向电流很小,但是当反向电压增大到某一值时,电流急剧上升,这种现象称为pn结的击穿。相应电压称为pn结击穿电压。;对Ge、Si、GaAs pn结当击穿电压小于 4Eg/q时,击穿机构通常是隧道击穿;对Ge、Si、GaAs pn结当击穿电压大于 6Eg/q时,击穿机构通常是雪崩击穿,击穿电压在4--6Eg/q之间时,雪崩击穿与隧穿击穿同时存在。;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理基础;第二章半导体光电子器件物理???础;势垒;2. 超晶格
量子阱(或不同导电类型材料)组成的一维周期性结构,其势垒宽度小于电子的德布罗意波长。;第二章半导体光电子器件物理基础; 量子线:
二个方向物理尺寸小于德布罗意波长;;2. 2DHG
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