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刻蚀设备产业园项目可行性报告【模板】.docx

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    泓域咨询/刻蚀设备产业园项目可行性报告 刻蚀设备产业园项目 可行性报告 xxx有限公司 报告说明 反应离子刻蚀（RIE）是一种采用化学反应和物理离子轰击去除硅片表面材料的技术，是当前常用技术路径，属于物理和化学混合刻蚀。在传统的反应离子刻蚀机中，进入反应室的气体会被分解电离为等离子体，等离子体由反应正离子、自由基、反应原子等组成。反应正离子会轰击硅片表面形成物理刻蚀，同时被轰击的硅片表面化学活性被提高，之后硅片会与自由基和反应原子形成化学刻蚀。这个过程中由于离子轰击带有方向性，RIE技术具有较好的各向异性。 根据谨慎财务估算，项目总投资32137.64万元，其中：建设投资25994

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