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一文看懂外表处理工艺一一真空电镀 真空电镀：Vacuum Metalizing,即是物理气相沉积（PVD）,即在真 空下将原子打到靶材外表上到达镀膜的目的。最早运用于光学镜片，如航 海望远镜镜片，后来随着技术的改进，延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机 外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料外表改性等。 归档中文名真空电镀 英文名Vacuum Metalizing别称名物理气相沉积（PVD） 技术分类薄膜技术 物理气相沉积（PVD）物理气相沉积 （Physical Vapor Deposition, PVD）下属分类 真空蒸发（真空蒸发） 磁控溅射（真空溅射）离子镀（真空离子镀） 环境影响真空环境下辐射小、环境污染小，真空电镀现为各行业中广泛应用。 Vacuum Metalizing Process Vacuum clumberV3por?/cd nW Vxuum Wd 10 ? mUhgrWockpeece mounted onto rotating hutue. whtch m turn folates on a spinning .vhecl Oute^ kame also routesCleftrrxles Alumeum lor oih^r metall wireWire spiral earners 步骤：在工件上先喷一层底漆，再做电镀。由于工件是塑料件，在注 塑时会残留空