化学气相沉积(1).pptVIP

二、化学气相沉积的工艺方法 三、压力 压力影响反应器内热量、质量及动量传输，因此会影响反应效率、膜质量及膜厚度的均匀性。在常压水平反应室内，气体流动状态可以认为是层流；而在负压立式反应室内，由于气体扩散增强，反应生成物废气能够尽量排出，可获得组织致密、质量好的涂层，更适合大批量生产。 化学气相沉积(1)全文共55页，当前为第32页。 由于传统的CVD沉积温度大约在800℃以上，所以必须选择合适的基体材料。 例如大部分钢就不合适， 这是由于它们会发生固态相变以及引起尺寸变化。 另外由于钢和镀层热膨胀系数的差别，冷却时在界面上产生相当大的切向应力会使结合破坏。 此外钢表面与反应室气体的反应，可能会在界面形成不希望的相。如反应室气体一般为氢气和卤化物，沉积反应时产生的HCl会与表面反应产生有害化合物。 化学气相沉积(1)全文共55页，当前为第33页。 常用的基体包括： 各种难熔金属（钼常被采用）、 石英、 陶瓷、 硬质合金等， 它们在高温下不容易被反应气体侵蚀。 当沉积温度低于700℃时，也可以钢为基体，但对钢的表面必须进行保护，一般用电镀或化学镀的方法在表面沉积一薄层镍。 化学气相沉积(1)全文共55页，当前为第34页。 三、化学气相沉积的特点与应用 特点 （1）沉积物众多，它可以沉积金属、碳化物、氮化物、氧 化物和硼化物。 （2）可以在常压或低真