薄膜制备与表面分析.pptVIP

溅射镀膜的优点： （1）对于任何待镀材料，只要能作成靶材，就可实现溅射 （2）溅射所获得的薄膜与基片结合较好 （3）溅射所获得的薄膜纯度高，致密性好 （4）溅射工艺可重复性好，可以在大面积衬底上获得厚度 均匀的薄膜 缺点： 相对于真空蒸发，沉积速率低，基片会受到等离子体的辐照等作用而产生温升。 第三章 薄膜制备技术――溅射法 在溅射过程中，大约95%的粒子能量作为热量而损耗掉，仅有5%的能量传递给二次发射的粒子。 在1kv的离子能量下，溅射出的中性粒子、二次电子和二次离子之比约为100:10:1。 3.1 溅射基本原理 一、离子轰击产生的各种现象 靶材是需要被溅射的物质，作为 阴极，相对阳极加数千伏电压， 在真空室内充入Ar气，在电极间形成辉光放电。 辉光放电过程中，将产生Ar离子，阴极材料原子，二次电子，光子等。 3.1 溅射基本原理 二、辉光放电的物理基础 等离子体 等离子体是一种中性、高能量、离子化的气体，包含中性原子或分子、原子团、带电离子和自由电子。 作用： 1、提供发生在衬底表面的气体反应所需要的大 部分能量 2、通过等离子刻蚀选择性地去处金属 3.1 溅射基本原理 ?产生辉光放电 通过混合气体中加直流电压、或射频电压，混合气体中的电子被电场加速，穿过混合气体，与气体原