泓域咨询/丹东光芯片销售项目可行性研究报告
丹东光芯片销售项目
可行性研究报告
xx(集团)有限公司
报告说明
从芯片制备角度,光芯片制备的工艺流程与集成电路芯片有一定相似性但侧重点不同,光芯片最核心的是外延环节。光芯片的制备流程同样包含了外延、光刻、刻蚀、芯片封测等环节。但就侧重点而言,光刻是集成电路芯片最重要的工艺环节,其直接决定了芯片的制程以及性能水平。与集成电路芯片不同,光芯片对制程要求相对不高,外延设计及制造是核心,该环节技术门槛最高。以激光器芯片为例,其决定了输出光特性以及光电转化效率。目前使用的激光器芯片多采用多量子阱结构,多量子阱结构实际上是由厚度在纳米尺度的不同薄层
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