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2022-1
38、〔化学—选修 5：有机化学根底〕(15 分)
席夫碱类化合物G 在催化、药物、材料等方面有广泛应用。合成G 的一种路线如下：
反响条件 1 所选择的试剂为 ；反响条件2 所选择的试剂为 ；I 的构造简式为 。
2022-2
38．[化学—选修 5：有机化学根底]〔15 分〕
立方烷〔 〕具有高度的对称性、高致密性、高张力能及高稳定性等特点，因此合成立方烷及
以下信息：
其衍生物成为化学界关注的热点。下面是立方烷衍生物I 的一种合成路线：
①
②一摩尔B 经上述反响可生居二摩尔C，且C 不能发生银镜反响。
③D 属于单取代芳烃，其相对分子质量为106
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