APPLICATION NOTE
自定义涂布模式提升 QPix 460 微生物
克隆筛选系统在样品处理上的灵活性
导言 建立自定义涂布模式
QTray 琼脂板用于大规模的培养和筛选微生 涂布模式编辑器位于 QPix 460 软件的涂 优势
物克隆。通过加入 48 格的分隔器,多种微生 布程序栏。打开编辑器可以建立自定义的
• 自定义涂布模式提供更多灵活性并
物样品可以在同一块 QTray 上单独培养 ( 图 涂布模式 ( 图 3 )。 避免样品间的交叉污染
1,左 )。可以利用 QPix 460 系统轻松涂布分 • 精确地加样和涂布样品
格的 QTray 板。不过同样可以在不分格的 涂布大肠杆菌至QTray板 • 从加样、涂布到克隆挑取的全自动
QTray 板上培养不同的微生物样品,当然这 建立局部螺旋涂布模式 ( 图 4 ) 后,我们利 化工作流程
需要克服交叉污染的隐患。在这个应用文章 用 QPix 460 系统的涂布程序和涂布头将
中,我们将阐述 QPix 460 系统如何通过自定 稀释至不同浓度的大肠杆菌样品涂布到不
义涂布模式用于涂布不分格的 QTray 板,从 分格的 QTray 琼脂板。QPix 460 系统程
而降低样品间交叉污染的可能性。 序设定为吸取 40 μl 菌液然后利用局部螺
旋涂布模式开展涂布。
QPix 460 微生物克隆筛选系统具有加样涂布
功能,可以自动地涂布菌液至 QTray 板。涂 涂布后 QTray 板于 37 ℃ 培养过夜。第二
布 96 个样品仅需 30 分钟。QPix 460 系统默认 天对整块 QTray 板白光成像 ( 图 5B 和图
的涂布模式适用于分格的 QTray 板。不过 QPix 6B )。
460 自带的涂布模式编辑器 (Plating Pattern
Editor) 允许用户灵活建立涂布模式。在涂布
至未分格 QTray 板时通过建立较小的涂布模
式可以保证样品之间具有足够的间隔从而防
止交叉污染。
图 1 倒入琼脂培养基的 QTray 板。分格的 QTray 板 ( 左 ) 和不 图 2 QPix 460 软件主界面,其中涂布模式编辑器有红圈标记。
分格的 QTray 板 ( 右 )。
A B
图6 八个最高浓度大肠杆菌样品生长结果的放大图。(A) 标准相机成像结
果。(B) QPix 460 系统白光成像结果。这些样品之间明显地分离,没有可
见的交叉污染。
结论
利用局部螺旋涂布模式,样品之间留有充分的空间而互相分离,
没有观察到克隆在间隔区域生长。这表明 QPix 460 系统不仅可以
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