基于皮米梳的皮米测量技术.docx

摘要 介绍一种基于皮米梳的皮米测量技术。在实验中，通过采用两次曝光全息技术制出皮米梳，其两次曝光的干涉场周期具有200 pm的差值。当激光照射到皮米梳上，将产生随着传播方向不变的干涉条纹。该干涉条纹的周期与皮米梳的周期差值成反比，由此建立了一种新型皮米尺度位移或变化的测量原理和方法。以皮米梳及其应用为基础，将会发展出一系列新的皮米光学元件、技术及装置。 Abstract This paper introduces a picometer measurement technology based on picometer comb. In the experiment, picometer co