物理气相沉积三种方法的比较.docxVIP

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2022-11-27 发布于江苏
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物理气相沉积三种方法的比较.docx

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-- -- -- -- 二、物理气相沉积三种基本方法的比较物理气相沉积是在真空条件下,利用蒸发或溅射等物理形式，把固体的材料转化为原子、分子或者离子态的气相物质然后使这些携带能量的蒸发粒子沉积到基体或零件的表面，以形成膜层的膜制备方法。物理气相沉积法主要有真空蒸镀、溅射和离子镀。真空蒸镀：在真空中加热使金属、合金或化合物蒸发,然后凝结在基体表面上的方法叫真空蒸镀。溅射:溅射是利用高速正离子轰击某一靶材（阴极），使靶材表面原子以一定能量逸出,后在工件表面沉积的过程。离子镀:离子镀借助于一种惰性气体的辉光放电使欲镀金属或合金蒸发离子化,并在这些荷能离子轰击基体（工件）表面并同时沉积在其上